科磊股份有限公司P·悟卡达拉获国家专利权
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龙图腾网获悉科磊股份有限公司申请的专利通过模拟光致抗蚀剂厚度演变来修补光刻掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119278412B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380042970.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权通过模拟光致抗蚀剂厚度演变来修补光刻掩模是由P·悟卡达拉;G·帕尔赛;白昆伦;李笑晗;A·布罗夫;张草;J·S·格雷夫斯;J·比亚福尔设计研发完成，并于2023-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本通过模拟光致抗蚀剂厚度演变来修补光刻掩模在说明书摘要公布了：一种用于掩模设计修补的系统可开发在用于制造样本上的特征的一或多个工艺步骤后的层厚度的基于模拟的模型，开发制造工艺的变换模型，所述变换模型模仿所述基于模拟的模型且具有比所述基于模拟的模型更快的评估速度，且其中到所述变换模型的输入包含输入掩模设计，且其中所述变换模型的输出包含与所述输入掩模设计的制造相关联的一或多个输出参数以及描述所述一或多个输出参数对所述输入掩模设计的变动的敏感度的一或多个敏感度度量。所述系统可进一步接收候选掩模设计且基于所述变换模型及所述候选掩模设计产生经修补掩模设计。
本发明授权通过模拟光致抗蚀剂厚度演变来修补光刻掩模在权利要求书中公布了：1.一种系统，其包括： 控制器，其包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令而引起所述一或多个处理器： 开发在用于制造样本上的特征的一或多个工艺步骤后的层厚度的基于模拟的模型，其中所述基于模拟的模型接受将在所述样本上曝光的输入掩模设计且至少提供在所述一或多个工艺步骤后的所述层厚度作为输出； 开发制造工艺的变换模型，所述变换模型模仿所述基于模拟的模型且针对输入或输出中的至少一者的选定范围具有比所述基于模拟的模型更快的评估速度，其中到所述变换模型的所述输入包含所述输入掩模设计，其中所述变换模型的所述输出包含与所述输入掩模设计的制造相关联的一或多个输出参数以及描述所述一或多个输出参数对所述输入掩模设计的变动的敏感度的一或多个敏感度度量，其中所述一或多个输出参数包含在所述一或多个工艺步骤后的所述层厚度或基于所述层厚度的随机缺陷率中的至少一者； 接收候选掩模设计；及 基于所述变换模型及所述候选掩模设计产生经修补掩模设计。
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