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龙图腾网获悉上海科技大学申请的专利一种基于X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统与方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119643606B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411830708.X，技术领域涉及：G01N23/20008；该发明授权一种基于X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统与方法是由刁杰承;范家东;高梓宸;江怀东设计研发完成，并于2024-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统与方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统与方法，涉及X射线自由电子激光领域。本发明提供的X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统，包括X射线光源，用于发射X射线自由电子激光；光路聚焦机构，设于X射线自由电子激光光路上，用于聚焦X射线自由电子激光；控光机构，设于经所述光路聚焦机构聚焦后的X射线自由电子激光的光路上并形成控光狭缝；样品靶，设于X射线自由电子激光的焦点处；样品靶，设于X射线自由电子激光的焦点处；单光子响应探测机构，设于X射线自由电子激光轰击样品后产生的衍射光路中，用于采集衍射花样；相位工作站，与所述单光子响应探测机构电连接，用于采集衍射花样数据并进行相位恢复。

本发明授权一种基于X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统与方法在权利要求书中公布了：1.一种基于X射线自由电子激光的飞秒超快衍射成像系统，其特征在于，包括： X射线光源1，用于发射X射线自由电子激光； 光路聚焦机构2，设于X射线自由电子激光光路上，用于聚焦X射线自由电子激光； 控光机构3，设于经所述光路聚焦机构2聚焦后的X射线自由电子激光的光路上并形成控光狭缝33，用于控制X射线自由电子激光的透光量； 样品靶4，设于X射线自由电子激光的焦点处；样品靶4包括多个靶区41，所述靶区41中设有样品42，X射线自由电子激光在样品42上形成光斑后产生衍射光路； 单光子响应探测机构5，设于X射线自由电子激光轰击样品42后产生的衍射光路中，用于采集衍射花样； 相位工作站6，与所述单光子响应探测机构5电连接，用于采集衍射花样数据并进行相位恢复； 所述单光子相应探测器包括支撑平台51和设于位移台上的单光子响应探测器52； 所述单光子响应探测器52包括设于衍射光路中的第一衍射光板52.1、零级衍射光板52.2和第二衍射光板52.3；所述第一衍射光板52.1和第二衍射光板52.3相对于X射线自由电子激光的光束设置且位于衍射光路的衍射光区域中，所述零级衍射光板52.2设于衍射光路的直通区域中，且所述零级衍射光板52.2前方还设有挡光板53。

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