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哈尔滨理工大学成夙获国家专利权

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龙图腾网获悉哈尔滨理工大学申请的专利一种使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119661230B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411862803.8,技术领域涉及:C04B35/577;该发明授权一种使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法是由成夙;李银燕;李卓;魏泽旭;樊明星设计研发完成,并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。

一种使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法在说明书摘要公布了:一种使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法,属于增材制造领域。本发明要解决现有采用3D打印技术制造SiC陶瓷试件存在孔隙率高的问题。方法:一、制备复合粉体;二、打印参数设定;三、脱脂;四、浸渍;五、烘干;六、高温烧结。本发明用于使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷。

本发明授权一种使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法在权利要求书中公布了:1.一种使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法,其特征在于它是按以下步骤进行的: 一、制备复合粉体: 按质量份数称取57份~76份大粒径碳化硅粉体、19份~38份小粒径碳化硅粉体和5份~10份粘结剂并混合,得到复合粉体; 且大粒径碳化硅粉体、小粒径碳化硅粉体和粘结剂的总质量份数为100份; 所述的大粒径碳化硅粉体的粒径为80μm~100μm;所述的小粒径碳化硅粉体的粒径为10μm~20μm; 二、打印参数设定: 在分层厚度为0.01mm~0.1mm、填充速度为1000mms~5000mms、轮廓速度为1000mms~3500mms、填充间距为0.01mm~0.4mm、填充功率为5W~25W、轮廓功率为2W~20W、预热温度为30℃~80℃及加工温度为30℃~90℃的条件下,利用复合粉体进行选择性激光烧结3D打印,得到陶瓷初胚; 所述的陶瓷初胚的厚度为0.1mm~0.5mm; 三、脱脂: 将陶瓷初胚进行脱脂处理,得到脱脂后的陶瓷件; 四、浸渍: 将脱脂后的陶瓷件浸渍于纳米氧化铝溶胶浸渗液中浸渍,得到浸渍后的陶瓷件; 所述的浸渍具体是按以下步骤进行:先在室温及真空度为0.06MPa~0.08MPa的条件下,保持20min~25min,然后在室温及压力为0.3MPa~0.4MPa的条件下,加压20min~25min; 五、烘干: 将浸渍后的陶瓷件烘干除去水分,得到烘干后的陶瓷件; 六、高温烧结: 将烘干后的陶瓷件升温至1200℃~1400℃,然后在温度为1200℃~1400℃的条件下保温,最后降至室温,即完成使用3D打印制备高致密度SiC陶瓷的方法。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人哈尔滨理工大学,其通讯地址为:150080 黑龙江省哈尔滨市南岗区学府路52号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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