中国航空工业集团公司西安飞机设计研究所蔡明获国家专利权
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龙图腾网获悉中国航空工业集团公司西安飞机设计研究所申请的专利一种改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构及其设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119666303B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411883616.8，技术领域涉及：G01M9/04；该发明授权一种改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构及其设计方法是由蔡明;王利敏;王超;王博仪;雷武涛设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构及其设计方法在说明书摘要公布了：本申请属于亚声速平面叶栅风洞试验技术领域，特别涉及一种改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构及其设计方法。结构包括：所述可移动下导流壁与所述可移动上导流壁之间形成进口流道；所述平面叶栅试验件上等栅距安装有多个叶片；所述上端壁为所述平面叶栅试验件的最上端叶片的吸力面，所述上端壁的前缘与所述可移动上导流壁的末端连接，沿所述上端壁表面的法向开设有贯穿的抽吸狭缝；所述下端壁为所述平面叶栅试验件的最下端叶片的吸力面，所述下端壁的前缘与所述可移动下导流壁的末端连接。本申请的改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构，能够部分或者全部减弱上述流场品质的不利影响，进而提升平面叶栅风洞流场品质，保证试验数据的有效性。
本发明授权一种改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构及其设计方法在权利要求书中公布了：1.一种改善平面叶栅风洞流场品质的抽吸结构，其特征在于，包括： 可移动上导流壁11； 可移动下导流壁12，所述可移动下导流壁12与所述可移动上导流壁11之间形成进口流道； 平面叶栅试验件21，所述平面叶栅试验件21上等栅距安装有多个叶片； 上端壁22，所述上端壁22为所述平面叶栅试验件21的最上端叶片的吸力面，所述上端壁22的前缘与所述可移动上导流壁11的末端连接，沿所述上端壁22表面的法向开设有贯穿的抽吸狭缝24； 下端壁23，所述下端壁23为所述平面叶栅试验件21的最下端叶片的吸力面，所述下端壁23的前缘与所述可移动下导流壁12的末端连接； 所述平面叶栅试验件21通过可转动圆盘31安装在试验段上； 所述抽吸狭缝24平行于所述平面叶栅试验件21上多个叶片的前缘线和尾缘线。
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