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龙图腾网获悉清华大学申请的专利基于灰度激光直写光刻的衍射光学元件设计与制造集成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119717410B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510111029.5，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权基于灰度激光直写光刻的衍射光学元件设计与制造集成方法是由罗毅;徐云鹏;臧梓涵;韩彦军设计研发完成，并于2025-01-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于灰度激光直写光刻的衍射光学元件设计与制造集成方法在说明书摘要公布了：本申请提出一种基于灰度激光直写光刻的衍射光学元件设计与制造集成方法，包括：建立制造模拟器和波动光学模拟器，制造模拟器通过低通滤波模型表征光学系统的空间频率响应，并结合光刻胶的非线性响应建立曝光剂量与显影结果之间的映射关系，波动光学模拟器利用制造模拟器的输出，结合波动光学理论预测光学性能；通过设置初始制造参数并迭代优化，动态调整光刻胶表面形貌，使其接近目标光学性能，优化过程结合自动微分技术、梯度优化算法及分块优化策略，提高计算效率；将优化后的参数用于灰度激光直写设备加工，制造衍射光学元件。本申请能够解决现有技术中光学邻近效应导致的制造偏差问题，同时显著提升衍射光学元件的整体性能。

本发明授权基于灰度激光直写光刻的衍射光学元件设计与制造集成方法在权利要求书中公布了：1.一种基于灰度激光直写光刻的衍射光学元件设计与制造集成方法，其特征在于，包括以下步骤： 建立表征灰度激光直写设备的光学临近效应及光刻胶的非线性响应的制造模拟器，所述制造模拟器包括模拟光学系统空间频率响应的低通滤波模型与光刻胶曝光剂量与显影结果之间的非线性映射模型； 建立波动光学模拟器，所述波动光学模拟器用于基于所述制造模拟器的输出，结合波动光学理论计算光学分布及光学性能，预测由光刻胶表面形貌引起的衍射光学特性； 根据设计目标，设置初始曝光剂量分布作为制造参数，利用所述制造模拟器预测光刻胶的初试表面形貌，并将预测结果输入所述波动光学模拟器，模拟得到对应的光学性能分布； 定义目标光学分布与模拟光学分布之间的差异作为损失函数，利用自动微分技术和基于梯度的优化方法计算所述损失函数对制造参数的梯度，优化制造参数； 重复优化步骤，逐步迭代制造参数使其逐步接近目标光学性能，直至损失函数满足预定性能指标或达到设定的最大迭代次数； 将优化后的制造参数作为输入参数，应用于灰度激光直写设备进行实际加工，制造衍射光学元件。

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