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龙图腾网获悉南方科技大学申请的专利一种气相缓蚀剂筛选方法、终端及可读存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119926826B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411877210.9，技术领域涉及：B07C5/34；该发明授权一种气相缓蚀剂筛选方法、终端及可读存储介质是由魏振华;徐青青;张毅琨设计研发完成，并于2024-12-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种气相缓蚀剂筛选方法、终端及可读存储介质在说明书摘要公布了：本发明涉及一种气相缓蚀剂筛选方法、终端及可读存储介质，所述方法包括：获取气相缓蚀剂列表，对所述气相缓蚀剂列表中的各个气相缓蚀剂进行初步筛选；对各个所述气相缓蚀剂进行辐照模拟，获取各个所述气相缓蚀剂的各个气相缓蚀剂辐照参数；根据各个所述气相缓蚀剂辐照参数对各个所述气相缓蚀剂进行筛选。本发明通过模拟气相缓蚀剂保护机理以及在辐照条件下的破坏机制，研究气相缓蚀剂用于预测抗辐照性能的关键气相缓蚀剂辐照参数，通过气相缓蚀剂辐照参数实现对气相缓蚀剂进行快速筛选，解决现有技术对气相缓蚀剂筛选依赖人工经验，费时费力的问题。

本发明授权一种气相缓蚀剂筛选方法、终端及可读存储介质在权利要求书中公布了：1.一种气相缓蚀剂筛选方法，其特征在于，所述气相缓蚀剂筛选方法包括： 获取气相缓蚀剂列表，对所述气相缓蚀剂列表中的各个气相缓蚀剂进行初步筛选； 对各个所述气相缓蚀剂进行辐照模拟，获取各个所述气相缓蚀剂的各个气相缓蚀剂辐照参数； 根据各个所述气相缓蚀剂辐照参数对各个所述气相缓蚀剂进行筛选； 所述对所述气相缓蚀剂列表中的各个气相缓蚀剂进行初步筛选，具体包括： 对每个所述气相缓蚀剂，获取气相缓蚀剂分子最稳定构型； 对每个所述气相缓蚀剂，根据所述气相缓蚀剂分子最稳定构型获取初步性能参数； 根据各个所述气相缓蚀剂的初步性能参数筛除不满足设定要求的气相缓蚀剂； 所述根据所述气相缓蚀剂分子最稳定构型获取初步性能参数，具体包括： 根据所述气相缓蚀剂分子最稳定构型进行分子沉淀成膜模拟，获取气相缓蚀剂的分子沉淀成膜速率和分子沉淀成膜时间； 根据所述气相缓蚀剂分子最稳定构型，获取气相缓蚀剂的缓蚀性能； 将所述分子沉淀成膜速率、所述分子沉淀成膜时间和所述缓蚀性能作为所述初步性能参数； 所述根据所述气相缓蚀剂分子最稳定构型进行所述分子沉淀成膜模拟，获取气相缓蚀剂的分子沉淀成膜速率和分子沉淀成膜时间，具体包括： 获取设定的温度、压力与化学势，根据所述温度、所述压力与所述化学势，通过巨正则蒙特卡洛方法模拟分子沉淀成膜过程，获取分子沉淀成膜曲线； 根据所述分子沉淀成膜曲线获取所述沉淀成膜速率和所述分子沉淀成膜时间； 所述对各个所述气相缓蚀剂进行辐照模拟，获取各个所述气相缓蚀剂的各个气相缓蚀剂辐照参数，具体包括： 对每个气相缓蚀剂，均根据所述气相缓蚀剂分子最稳定构型进行所述分子沉淀成膜模拟，获取稳定性膜结构； 模拟所述稳定性膜结构在辐照下的沉淀结构破坏过程，计算辐射下气相缓蚀剂的分子键能、官能团类型和分子能量； 将所述分子键能、所述官能团类型和所述分子能量作为所述气相缓蚀剂辐照参数； 所述根据各个所述气相缓蚀剂辐照参数对各个所述气相缓蚀剂进行筛选，具体包括： 对每个气相缓蚀剂，将所述分子键能、所述官能团类型和所述分子能量输入抗辐照预测模型，所述抗辐照预测模型输出气相缓蚀剂的抗辐照等级； 滤除抗辐照等级低于设定阈值的气相缓蚀剂。

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