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龙图腾网获悉北京深势科技有限公司申请的专利一种光电分子生成模型的处理方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120183559B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510283219.5，技术领域涉及：G16C20/70；该发明授权一种光电分子生成模型的处理方法和装置是由赵国江;程正;赵子丰;高志锋;柯国霖;张林峰设计研发完成，并于2025-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光电分子生成模型的处理方法和装置在说明书摘要公布了：本发明实施例涉及一种光电分子生成模型的处理方法和装置，所述方法包括：构建体素张量初始化模块和光电分子生成模型；并由体素张量初始化模块和光电分子生成模型组成一个模型训练框架；构建模型数据集；并基于模型数据集和模型训练框架训练光电分子生成模型；训练结束后接收用户输入的步数阈值smax和采样间隔△s；并生成初始体素张量；并按欠阻尼朗之万MCMC算法根据初始体素张量、smax和△s进行采样得到多个第一体素张量；并利用光电分子生成模型基于所有第一体素张量生成新结构集合向当前用户反馈。通过本发明可以缩短新分子的生成周期、可以丰富新分子的结构种类。

本发明授权一种光电分子生成模型的处理方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种光电分子生成模型的处理方法，其特征在于，所述方法包括： 构建体素张量初始化模块和光电分子生成模型；并由所述体素张量初始化模块和所述光电分子生成模型组成一个模型训练框架；所述体素张量初始化模块用于根据模块输入的原始分子结构M0进行体素张量创建得到对应的体素张量V；所述光电分子生成模型用于根据模型输入的所述体素张量V进行分子结构生成处理并输出对应的预测分子结构M； 通过对已知光电分子结构进行数据采集构建对应的模型数据集；并基于所述模型数据集和所述模型训练框架对所述光电分子生成模型进行训练； 模型训练结束后，接收用户输入的步数阈值smax和采样间隔△s；并进行体素张量初始化处理得到一个对应的初始体素张量；并基于欠阻尼朗之万MCMC算法以所述初始体素张量为起始量进行smax步连续抽样得到对应的smax个抽样体素张量，并在抽样过程中每隔△s步就将当前步数对应的所述抽样体素张量提取出来作为一个对应的第一体素张量；并将各个所述第一体素张量作为一个对应的所述体素张量V输入所述光电分子生成模型进行处理得到一个对应的所述预测分子结构M；并由本次得到的所有所述预测分子结构M组成对应的新结构集合向当前用户反馈。

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