浙江众凌科技有限公司王凤姣获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江众凌科技有限公司申请的专利一种控制掩膜版非拉伸向形变量的方法及金属掩膜版获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120370617B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510757926.3,技术领域涉及:G03F1/68;该发明授权一种控制掩膜版非拉伸向形变量的方法及金属掩膜版是由王凤姣;管金榜;王志欣;吴佩艳;彭源发设计研发完成,并于2025-06-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种控制掩膜版非拉伸向形变量的方法及金属掩膜版在说明书摘要公布了:本发明涉及显示技术领域,提供了一种控制掩膜版非拉伸向形变量的方法及金属掩膜版,包括:按指定形变量拉伸目标膜厚的样品掩膜版,拉伸后对像素区设置多个指定点位量测,得到所述样品掩膜版的多个指定点位的非拉伸向内缩形变量;标记所述样品掩膜版的非拉伸向内缩形变量小于第一内缩阈值、或大于第二内缩阈值的区域为膜厚调整区域;获取膜厚的变化量与非拉伸向内缩形变量的变化量的对应关系式;根据所述对应关系式计算所述膜厚调整区域的膜厚变化量;在前处理阶段对金属薄膜原材根据计算的不同区域的膜厚值进行刻蚀。本申请在前处理阶段通过膜厚的调整,使得掩膜版的非拉伸向内缩形变量在规格以内,避免额外的光罩成本损耗和制作时间损耗。
本发明授权一种控制掩膜版非拉伸向形变量的方法及金属掩膜版在权利要求书中公布了:1.一种控制掩膜版非拉伸向形变量的方法,其特征在于,包括: 按指定形变量拉伸目标膜厚的样品掩膜版,拉伸后对像素区设置多个指定点位量测,得到所述样品掩膜版的多对指定点位的非拉伸向内缩形变量; 标记所述样品掩膜版的非拉伸向内缩形变量小于第一内缩阈值、或大于第二内缩阈值的区域为膜厚调整区域; 获取膜厚的变化量与非拉伸向内缩形变量的变化量的对应关系式; 根据所述对应关系式计算所述膜厚调整区域的膜厚变化量; 在前处理阶段对金属薄膜原材根据计算的不同区域的膜厚值进行刻蚀; 所述获取膜厚的变化量与非拉伸向内缩形变量的变化量的对应关系式包括: 将不同膜厚的掩膜版以所述指定形变量拉伸; 获取所述不同膜厚的掩膜版的各自的非拉伸向内缩形变量; 以膜厚的变化量为自变量,以非拉伸向内缩形变量的变化量为因变量,拟合得到膜厚的变化量与非拉伸向内缩形变量的变化量的对应关系式。
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