晟盈半导体设备(江苏)有限公司张浩获国家专利权
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龙图腾网获悉晟盈半导体设备(江苏)有限公司申请的专利晶圆表面清洁装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120453204B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510954188.1，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权晶圆表面清洁装置是由张浩;徐传勇;孙文杰设计研发完成，并于2025-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆表面清洁装置在说明书摘要公布了：本发明公开了晶圆表面清洁装置，其包括清洗槽，其中晶圆载具沿着上下方向插装至清洗槽中，清洁装置还包括由下而上依次布局且同步运动的溢流机构和待清洗面处理机构。本发明一方面通过采用溢流方式，配合表面液膜形成的阻碍，实现对清洗液面下降速度的精准控制，从而确保清洗液面保持平稳；另一方面通过溢流机构和待清洗面处理机构同步下行运动，实现气流相对清洁液面的喷射高度始终不变的将清洁液溢流排出，再由第一、二气流的吹扫和协作以保持交界处清洗液面与晶圆待清洗面相垂直并形成不受液位波动影响的液膜，有效抑制清洗液沿着晶圆表面爬升的趋势，从而降低清洗液大范围残留至晶圆表面的概率并自上而下逐渐实现晶圆表面的无痕干燥。
本发明授权晶圆表面清洁装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆表面清洁装置，其包括清洗槽，其中晶圆载具沿着上下方向插装至清洗槽中，晶圆所形成待清洗面浸泡于清洗液中，其特征在于，清洁装置还包括由下而上依次布局且同步运动的溢流机构和待清洗面处理机构，其中溢流机构形成有溢流通路；待清洗面处理机构形成有由液体气化而成且易挥发的多股气流，其中多股气流包括吹向外露于清洗液面的待清洗面以形成干燥的第一气流、吹向清洗液面和待清洗面的交界处以形成逐渐覆盖清洁液面的液膜的第二气流，以待清洗面为基准，随着溢流机构下行运动将清洗液自溢流通路排出，溢流机构下行控制清洗液面下降速度以确保清洗液面保持平稳，且第一、二气流同时吹扫和协作以使得靠近交界处的清洗液面与待清洗面保持垂直并自上而下逐渐干燥待清洗面。
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