西湖大学朱天元获国家专利权
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龙图腾网获悉西湖大学申请的专利具有二维层状电极的铁电薄膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120568774B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511054064.4，技术领域涉及：H10D1/68；该发明授权具有二维层状电极的铁电薄膜及其制备方法是由朱天元;刘仕设计研发完成，并于2025-07-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本具有二维层状电极的铁电薄膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种具有二维层状电极的铁电薄膜及其制备方法，铁电薄膜包括：铁电氧化铪薄膜以及设置于铁电氧化铪薄膜上的二维层状的氮化二钙电极。本发明的氮化二钙与氧化铪111面内晶格匹配性优异，晶格的失配度极低，有利于实现异质结构的高质量外延生长，为器件制造提供结构基础。本发明的氮化二钙与氧化铪能在界面处形成稳定的化学键如Hf‑N和O‑Ca，可以有效增强界面结合力，提升器件的结构稳定性。本发明的氮化二钙能显著抑制氧化铪薄膜中的退极化场，使其铁电极化强度恢复并超越氧化铪块体，可以显著提升氧化铪的铁电性能。
本发明授权具有二维层状电极的铁电薄膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有二维层状电极的铁电薄膜，其特征在于，所述铁电薄膜包括： 铁电氧化铪薄膜以及设置于所述铁电氧化铪薄膜上的二维层状的氮化二钙电极。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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