电子科技大学庹涛获国家专利权
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龙图腾网获悉电子科技大学申请的专利一种基于混合维材料的复合MOSFET光电探测器获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120692937B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511137724.5,技术领域涉及:H10F30/282;该发明授权一种基于混合维材料的复合MOSFET光电探测器是由庹涛;韩嘉悦;魏来江;吴志明;王军设计研发完成,并于2025-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于混合维材料的复合MOSFET光电探测器在说明书摘要公布了:本发明公开了一种基于混合维材料的复合MOSFET光电探测器,属于光电探测领域。该探测器顶端PN结中内建电场使得一种光生载流子被石墨烯收集,从而通过高k的六方氮化硼影响底端PN结的结区载流子,形成了由光驱动的MOSFET结构;PbSe量子点则拓展了器件的探测波长范围。底端PN结形成的内建电场使得光生载流子分离并产生本征响应;一维材料能够对偏振光进行探测,且横截面积较小,有效抑制暗电流。同时,通过顶部栅极能够对两个PN结进行控制,使得器件工作在MOSFET的放大区,对光响应进行线性放大。本发明有效避免了光门控的发生,实现偏振、宽波段、高灵敏度、高速探测器。
本发明授权一种基于混合维材料的复合MOSFET光电探测器在权利要求书中公布了:1.一种基于混合维材料的复合MOSFET光电探测器,其特征在于,该光电探测器的结构包括:二氧化硅衬底、源极金属电极、漏极金属电极、MoSe2二维材料、PbSe纳米线一维材料、六方氮化硼、石墨烯、PbSe量子点、顶栅金属电极; 二氧化硅衬底上表面两侧分别设置源极金属电极和漏极金属电极,源极金属电极和漏极金属电极之间设置首层MoSe2二维材料,首层MoSe2二维材料不与源极金属电极和漏极金属电极接触,采用镂空隔离;源极金属电极上表面设置第二层MoSe2二维材料,并向内延伸与首层MoSe2二维材料连接,形成台阶状;首层MoSe2二维材料与漏极金属电极上表面设置PbSe纳米线一维材料,PbSe纳米线一维材料都为条状,间隔设置;PbSe纳米线一维材料的对应于首层MoSe2二维材料的上表面依次层叠:六方氮化硼、石墨烯、PbSe量子点、顶栅金属电极。
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