安集微电子(上海)有限公司周文婷获国家专利权
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龙图腾网获悉安集微电子(上海)有限公司申请的专利一种化学机械抛光液获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN109971356B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201711439535.9，技术领域涉及：C09G1/02；该发明授权一种化学机械抛光液是由周文婷设计研发完成，并于2017-12-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光液在说明书摘要公布了：本发明公开了一种化学机械抛光液，所述化学机械抛光液包括二氧化硅研磨颗粒和增速剂；其中，所述增速剂选为含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物及其衍生物，以及含一个或多个氨基基团的嘧啶化合物及其衍生物。本发明所提供的酸性化学机械抛光液能够提高氮化硅去除速率的同时提高多晶硅的抛光速率。
本发明授权一种化学机械抛光液在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包括二氧化硅研磨颗粒和增速剂；其中，所述增速剂选为含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物，以及含一个或多个氨基基团的嘧啶化合物； 所述含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物选自2-羧基吡啶、3-羧基吡啶、4-羧基吡啶、2,3-二羧基吡啶、2,4-二羧基吡啶、2,6-二羧基吡啶、3,5-二羧基吡啶、2-羧基哌啶、3-羧基哌啶、4-羧基哌啶、2,3-二羧基哌啶、2,4-二羧基哌啶、2,6-二羧基哌啶、3,5-二羧基哌啶、2-羧基吡咯烷、3-羧基吡咯烷、2,4-二羧基吡咯烷、2,5-二羧基吡咯烷、2-羧基吡咯、3-羧基吡咯、2,5-二羧基吡咯、3,4-二羧基吡啶中的一种或多种； 所述含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物的浓度为质量百分比为0.05～0.6％； 所述含一个或氨基的嘧啶化合物选自2-氨基嘧啶，4-氨基嘧啶，2,4-二氨基嘧啶，2,4,5-三氨基嘧啶中的一种或多种； 所述含一个或多个氨基的嘧啶化合物的浓度为质量百分比为0.02～0.6％；所述化学机械抛光液的pH值为2-6。
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