罗门哈斯电子材料有限责任公司王德岩获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利减反射涂层获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111580194B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010092137.X，技术领域涉及：G02B1/113；该发明授权减反射涂层是由王德岩;刘盛设计研发完成，并于2020-02-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本减反射涂层在说明书摘要公布了：提供了一种用于形成减反射膜的可固化组合物。所述组合物包含：a中空二氧化硅纳米颗粒；b具有反应性基团的硅氧烷粘合剂；c至少一种具有反应性基团的附加材料；d引发剂；以及e溶剂。所述硅氧烷粘合剂以硅氧烷粘合剂+具有反应性基团的附加材料的总重量的至少50重量％的量存在。中空二氧化硅纳米颗粒与硅氧烷粘合剂+具有反应性基团的附加材料的总和的重量比是不大于1.75至1。
本发明授权减反射涂层在权利要求书中公布了：1.一种用于形成减反射膜的可固化组合物，所述组合物包含： a中空二氧化硅纳米颗粒； b具有反应性基团的硅氧烷粘合剂； c至少一种具有反应性基团的附加材料，所述附加材料包括单体、低聚物和表面活性剂； d引发剂；以及 e溶剂； 其中： i所述硅氧烷粘合剂以硅氧烷粘合剂+具有反应性基团的附加材料的总重量的至少80重量％的量存在；并且 ii中空二氧化硅纳米颗粒与硅氧烷粘合剂+具有反应性基团的附加材料的总和的重量比为600729：1到1.44：1。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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