德克萨斯仪器股份有限公司P·费尔南德斯获国家专利权
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龙图腾网获悉德克萨斯仪器股份有限公司申请的专利用于蚀刻金属互连层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN111816607B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202010278389.1，技术领域涉及：H01L21/768；该发明授权用于蚀刻金属互连层的方法是由P·费尔南德斯;B·斯里尼瓦桑;S·W·杰森;G·S·马图尔设计研发完成，并于2020-04-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于蚀刻金属互连层的方法在说明书摘要公布了：本申请公开了用于蚀刻金属互连层的方法。在一些示例中，一种方法100包括：获得具有沉积在衬底402上方的金属互连层的衬底；在金属互连层404上形成第一介电层406；在第一介电层上形成第二介电层408；在第二介电层上形成电容器金属层；将电容器金属层和第二介电层图案化和蚀刻至第一介电层，以将电容器金属层和第二介电层的部分留在第一介电层上410；形成抗反射涂层以覆盖电容器金属层和第二介电层的部分，并覆盖金属互连层412；以及图案化金属互连层以形成第一金属层和第二金属层414。
本发明授权用于蚀刻金属互连层的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于集成电路的方法，其包括： 获得衬底，所述衬底具有沉积在所述衬底上方的金属互连层； 在所述金属互连层上形成第一介电层； 直接在所述第一介电层上形成第二介电层； 在所述第二介电层上形成电容器金属层； 将所述电容器金属层和所述第二介电层图案化并蚀刻，所述图案化和蚀刻延伸到所述第一介电层中，以将所述电容器金属层和所述第二介电层的一部分留在所述第一介电层上； 形成抗反射涂层以覆盖所述电容器金属层和所述第二介电层的所述部分，并覆盖所述金属互连层；以及 图案化所述金属互连层以形成第一金属层和第二金属层，所述第一金属层形成电容器的板。
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