富士胶片株式会社野副宽获国家专利权
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龙图腾网获悉富士胶片株式会社申请的专利光取向性共聚物、光取向膜及光学层叠体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112262162B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201980035205.4，技术领域涉及：C08F220/30；该发明授权光取向性共聚物、光取向膜及光学层叠体是由野副宽;饭泉隆史;中川一茂;加藤考浩;朝日美帆;大村浩文;平井友树设计研发完成，并于2019-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本光取向性共聚物、光取向膜及光学层叠体在说明书摘要公布了：本发明的课题在于提供一种能够制作耐溶剂性及液晶取向性优异的光取向膜的光取向性共聚物、以及使用该光取向性共聚物而制作的光取向膜及光学层叠体。本发明的光取向性共聚物为具有包含由下述式A表示的光取向性基团的重复单元A和包含由下述式B表示的交联性基团的重复单元B的光取向性共聚物。
本发明授权光取向性共聚物、光取向膜及光学层叠体在权利要求书中公布了：1.一种光取向性共聚物，其具有包含由下述式A表示的光取向性基团的重复单元A和包含由下述式B表示的交联性基团的重复单元B， 所述式A中，R1表示氢原子或甲基，R2、R3、R4、R5及R6分别独立地表示氢原子或取代基，R2、R3、R4、R5及R6中相邻的2个基团也可以键合而形成环， 所述式B中，R7表示氢原子或甲基，L2表示2价连接基， 所述式B中的X为选自由下述式X1～X3组成的组中的至少1种交联性基团， 所述式X1～X3中，*表示与所述式B中的L2的键合位置，R8表示氢原子、甲基及乙基中的任一个， 所述式A中的L1为由下述式1～10中的任一个表示的2价连接基， 所述式1～10中，*1表示与所述式A中的构成主链的碳原子的键合位置，*2表示与所述式A中的构成羰基的碳原子的键合位置。
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