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龙图腾网获悉三菱化学株式会社申请的专利脱模薄膜、薄膜层叠体、它们的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113939401B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080041368.6，技术领域涉及：B32B27/00；该发明授权脱模薄膜、薄膜层叠体、它们的制造方法是由大关阳介设计研发完成，并于2020-04-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本脱模薄膜、薄膜层叠体、它们的制造方法在说明书摘要公布了：具有对有机硅粘合剂层容易剥离的优异的轻剥离性、进而能够减少氟化有机硅的用量的新型脱模薄膜为如下脱模薄膜，其特征在于，在基材薄膜的至少单面侧具备脱模层，所述脱模层是包含A具有氟取代基的固化型有机硅、B不含氟取代基的固化型有机硅和D固化催化剂的脱模层组合物固化而成的，该脱模层内的厚度方向上的氟原子的浓度分布中，氟原子偏在于脱模层表面。

本发明授权脱模薄膜、薄膜层叠体、它们的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种脱模薄膜的制造方法，其特征在于，将A具有氟取代基的固化型有机硅、C不含氟取代基的有机硅交联剂、和D固化催化剂混合后，进行搅拌和静置3分钟以上，接着，与B不具有氟取代基的固化型有机硅混合，制备脱模层组合物，将该脱模层组合物涂布于基材薄膜的至少单面侧， 其中，所述脱模薄膜为在基材薄膜的至少单面侧具备脱模层组合物固化而成的脱模层的脱模薄膜， 该脱模层内的厚度方向上的氟原子的浓度分布中，氟原子偏在于脱模层表面，脱模层表面的氟原子浓度为40.0原子浓度％以上， XPS即X射线光电子能谱法使用GC-IB即气体团簇离子束，在溅射速度恒定下，测定所述脱模层内的厚度方向上的氟原子的浓度分布，将得到的氟原子浓度分布以总溅射时间均等地一分为九，确定第1测量点、第2测量点、…第10测量点时， 第2测量点～第10测量点中的以原子％计的氟原子浓度为第1测量点中的以原子％计的氟原子浓度的30.0％以下， 第6测量点～第10测量点中的以原子％计的平均氟原子浓度为第1测量点中的以原子％计的氟原子浓度的5.0％以上， 所述氟原子浓度分布中，纵轴为以原子％计的氟原子浓度、横轴为以分钟计的溅射时间，所述第1测量点的溅射时间为0， 所述脱模层的常态剥离力为40mNcm以下、且残留粘接率为95％以上， 所述脱模层的加热剥离力为60mNcm以下。

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