TOTO株式会社佐藤真树获国家专利权
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龙图腾网获悉TOTO株式会社申请的专利静电吸盘获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113994462B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080036383.1,技术领域涉及:H01L21/683;该发明授权静电吸盘是由佐藤真树;板仓郁夫;西愿修一郎;白石纯;籾山大;小林幸太设计研发完成,并于2020-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本静电吸盘在说明书摘要公布了:本发明提供一种静电吸盘,具备:导电性的基座板,具有第1部分和设置在所述第1部分的外周的第2部分,设置有导入冷却气体的气体导入路;第1静电吸盘部,设置在所述第1部分上,构成为可吸附晶片,具备具有连通于所述气体导入路的至少一个穿通孔的陶瓷电介体基板和内置于所述陶瓷电介体基板的第1吸附电极;及第2静电吸盘部,设置在所述第2部分上,构成为可吸附聚焦环,具备具有可导入冷却气体的至少一个穿通孔的陶瓷层,所述陶瓷层至少具有当所述聚焦环吸附于所述第2静电吸盘部时接触所述聚焦环的第1层,所述第1层的致密度构成为小于所述陶瓷电介体基板的致密度。由此,提供一种可提高设备的成品率的静电吸盘。
本发明授权静电吸盘在权利要求书中公布了:1.一种静电吸盘,具备: 导电性的基座板,具有第1部分和设置在所述第1部分的外周的第2部分,设置有导入冷却气体的气体导入路; 第1静电吸盘部,设置在所述第1部分上,构成为可吸附晶片,具备具有连通于所述气体导入路的至少一个穿通孔的陶瓷电介体基板和内置于所述陶瓷电介体基板的第1吸附电极; 及第2静电吸盘部,设置在所述第2部分上,构成为可吸附聚焦环,具备具有可导入冷却气体的至少一个穿通孔的陶瓷层,其特征为, 所述陶瓷层至少具有当所述聚焦环吸附于所述第2静电吸盘部时接触所述聚焦环的第1层以及设置在所述第2部分与所述第1层之间的第2层,所述第1层的致密度构成为小于所述陶瓷电介体基板的致密度, 所述第1层具有:所述聚焦环侧的第1上面;及所述第1上面的相反侧的第1下面, 所述第2层具有:所述第1层侧的第2上面;及所述第2上面的相反侧的第2下面, 所述第1上面的表面粗糙度小于所述第2下面的表面粗糙度。
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