昭和电工材料株式会社贺口阳介获国家专利权
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龙图腾网获悉昭和电工材料株式会社申请的专利金属掩膜的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114855119B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111457144.6，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权金属掩膜的制造方法是由贺口阳介;粂壮和;武田明子;高野真次设计研发完成，并于2021-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本金属掩膜的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种金属掩膜的制造方法，该方法包括：对具备金属部件150、配置于金属部件150上的感光层120及配置于感光层120上的阻挡层110的层叠体1A的感光层120，经由阻挡层10照射活性光线1L，由此在感光层120上形成图案状的光固化部120a的工序；通过去除感光层120中除了光固化部120a以外的部分，在金属部件150上形成露出部的工序；及去除金属部件150的露出部的工序。
本发明授权金属掩膜的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种金属掩膜的制造方法，该方法包括： 对具备金属部件、配置于该金属部件上的感光层及配置于该感光层上的阻挡层的层叠体的所述感光层，经由所述阻挡层照射活性光线，由此在所述感光层上形成图案状的光固化部的工序； 通过去除所述感光层中除了所述光固化部以外的部分，在所述金属部件上形成露出部的工序；及 去除所述露出部的工序， 其中，所述阻挡层含有包含丙烯酸系聚合物的流平剂。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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