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龙图腾网获悉苏州华星光电技术有限公司申请的专利驱动基板的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115079524B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210792254.6，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权驱动基板的制备方法是由汤帅;李烨操设计研发完成，并于2022-07-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本驱动基板的制备方法在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种驱动基板的制备方法，本申请实施例的驱动基板的制备方法在拼接曝光过程中，同层设置的第一曝光层和第二曝光层重叠形成第一拼接区域，并将第一基准标尺、第二基准标尺以及和第三基准标尺均设置在第一拼接区域外侧，且第一基准标尺、第二基准标尺以及和第三基准标尺均是由单次曝光形成，以有效避免因多次曝光而导致基准标尺本身存在误差的影响。而后续同层设置的第三曝光层和第四曝光层在曝光对位中均会使用第二基准标尺进行对位，如此通过在曝光同层时采用同一组基准标尺，如此有效避免了因采用不同基准标尺而导致位置偏差的影响。进而在曝光工艺制程中，提升第二层重叠曝光区域的对位性能，改善重叠曝光区的拼接精度。

本发明授权驱动基板的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种驱动基板的制备方法，其特征在于，包括： S1：提供一玻璃基板，通过第一掩模板与所述玻璃基板对位，以在所述玻璃基板上界定第一曝光区域，在所述玻璃基板的第一曝光区域形成第一曝光层，所述第一曝光层包括第一基准标尺； S2：通过第二掩模板与所述玻璃基板对位，以在所述玻璃基板上界定第二曝光区域，所述第二曝光区域与所述第一曝光区域部分重叠设置以形成为第一拼接区域，在所述玻璃基板的所述第二曝光区域形成与所述第一曝光层同层设置的第二曝光层，所述第二曝光层包括第二基准标尺和第三基准标尺，所述第一基准标尺、所述第二基准标尺以及第三基准标尺同时位于所述第一拼接区域的外侧，且所述第二基准标尺位于所述第一基准标尺和所述第三基准标尺之间，所述二曝光区域的面积大于所述第一曝光区域的面积，所述第二基准标尺位于所述第一拼接区域与所述第三基准标尺之间； S3：通过第三掩模板同时与所述第一基准标尺和所述第二基准标尺进行对位后，以在所述玻璃基板上界定第三曝光区域； S4：通过第四掩模板同时与所述第二基准标尺和所述第三基准标尺进行对位后，以在所述玻璃基板上界定第四曝光区域，所述第四曝光区域与所述第三曝光区域部分重叠设置形成第二拼接区域； S5：通过所述第三掩模板对所述玻璃基板的第三曝光区域进行曝光以形成第三曝光层，所述第三曝光层位于所述第一曝光层的上方，通过所述第四掩模板对所述玻璃基板的第四曝光区域进行曝光以形成与所述第三曝光层同层设置的第四曝光层。

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