纽富来科技股份有限公司野村春之获国家专利权
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龙图腾网获悉纽富来科技股份有限公司申请的专利带电粒子射束描绘方法、装置及计算机可读取的记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115373228B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210546780.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权带电粒子射束描绘方法、装置及计算机可读取的记录介质是由野村春之;中山田宪昭;小笠原宗博设计研发完成，并于2022-05-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本带电粒子射束描绘方法、装置及计算机可读取的记录介质在说明书摘要公布了：本实施方式提供高精度地校正射束照射位置而能够防止描绘精度降低的带电粒子射束描绘方法、带电粒子射束描绘装置及计算机可读取的记录介质。本实施方式的带电粒子射束描绘方法，通过偏转器使带电粒子射束偏转，并向基板照射所述带电粒子射束来描绘图案，该带电粒子射束描绘方法，基于刚照射所述带电粒子射束后的所述基板上的射束照射区域的带电量和所述基板中的电荷的扩散系数，计算带电量分布；基于所述带电分布，计算所述基板上的所述带电粒子射束的位置偏移量分布；基于所述位置偏移量分布，校正所述带电粒子射束的照射位置。
本发明授权带电粒子射束描绘方法、装置及计算机可读取的记录介质在权利要求书中公布了：1.一种带电粒子射束描绘方法，通过偏转器使带电粒子射束偏转，并向基板照射所述带电粒子射束来描绘图案，其特征在于， 基于刚照射所述带电粒子射束后的所述基板上的射束照射区域的带电量和所述基板中的电荷的扩散系数，计算带电量分布； 基于所述带电量分布，计算所述基板上的所述带电粒子射束的位置偏移量分布； 基于所述位置偏移量分布，对所述带电粒子射束的照射位置进行校正。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人纽富来科技股份有限公司，其通讯地址为：日本神奈川县；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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