ASML荷兰有限公司方伟获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利针对带电粒子束检查中的多层结构的图像增强获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115552455B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180033628.X,技术领域涉及:G06T5/00;该发明授权针对带电粒子束检查中的多层结构的图像增强是由方伟;费若冲;浦凌凌;周文天;于良江;王波设计研发完成,并于2021-05-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本针对带电粒子束检查中的多层结构的图像增强在说明书摘要公布了:一种用于增强带电粒子束检查系统中的检查图像的改进方法和装置。一种用于增强检查图像的改进方法,包括:获取分别以第一焦点和第二焦点拍摄的样品的多个堆叠层的第一图像和第二图像;将第一图像的第一片段与多个堆叠层中的第一层相关联;以及将第二图像的第二片段与多个堆叠层中的第二层相关联;基于与第一层相对应的第一参考图像来更新第一片段;并且基于与第二层相对应的第二参考图像来更新第二片段;以及组合所更新的第一片段和所更新的第二片段以生成包括第一层和第二层的组合图像。
本发明授权针对带电粒子束检查中的多层结构的图像增强在权利要求书中公布了:1.一种用于增强带电粒子束检查系统中的检查图像的方法,所述方法包括: 获取分别以第一焦点和第二焦点拍摄的样品的多个堆叠层的第一图像和第二图像; 将所述第一图像的第一片段与所述多个堆叠层中暴露的第一层相关联,并且将所述第二图像的第二片段与所述多个堆叠层中暴露的第二层相关联; 基于与所述第一层相对应的第一参考图像来估计所述第一片段的第一模糊度,并且基于第二参考图像来估计所述第二片段的第二模糊度; 通过根据所述第一模糊度对所述第一片段执行图像补偿来更新所述第一片段,并且通过根据所述第二模糊度对所述第二片段执行图像补偿来更新所述第二片段;以及 组合所更新的所述第一片段和所更新的所述第二片段,以生成包括所述第一层和所述第二层的组合图像。
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