太原理工大学闫涛获国家专利权
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龙图腾网获悉太原理工大学申请的专利一种基于光子晶体缺陷隧穿峰叠加的日盲紫外带通滤波结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115657186B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211304577.2，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权一种基于光子晶体缺陷隧穿峰叠加的日盲紫外带通滤波结构是由闫涛;侯好强;杨毅彪;赵晓丹;武敏设计研发完成，并于2022-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于光子晶体缺陷隧穿峰叠加的日盲紫外带通滤波结构在说明书摘要公布了：本发明量子光学材料技术领域，具体为一种基于光子晶体缺陷隧穿峰叠加的日盲紫外带通滤波结构，解决了背景技术中的技术问题，其采用[HLN1AHLN1]N2结构，H为高折射率介质层，L为低折射率介质层，A为缺陷层，高折射率介质层和低折射率介质层周期性排列而成光子晶体，N1为缺陷层两侧的光子晶体的周期；缺陷层与其两侧的光子晶体组合后形成缺陷型光子晶体，N2为缺陷型光子晶体的周期。本发明基于光子晶体结构的光子局域特性并基于多个缺陷隧穿峰叠加原理，能实现日盲紫外波段239‑280nm的高透射深截止滤波，通带平均透射率可达到90.71%，阻带平均透射率仅为1.47%，具有显著提高日盲紫外探测系统性能的潜力。
本发明授权一种基于光子晶体缺陷隧穿峰叠加的日盲紫外带通滤波结构在权利要求书中公布了：1.一种基于光子晶体缺陷隧穿峰叠加的日盲紫外带通滤波结构，其特征在于，采用[HLN1AHLN1]N2结构，H为高折射率介质层，L为低折射率介质层，A为缺陷层，高折射率介质层和低折射率介质层周期性排列而成光子晶体1，N1为缺陷层两侧的光子晶体1的周期；光子晶体1中高折射率介质层的厚度相同，低折射率介质层的厚度相同，高折射率介质层的厚度不同于低折射率介质层的厚度；缺陷层与其两侧的光子晶体1组合后形成缺陷型光子晶体2，N2为缺陷型光子晶体2的周期； 高折射率介质层的材料为Si3N4，低折射率介质层的材料为SiO2，缺陷层为空气； 缺陷层两侧的光子晶体1的周期N1为1； 缺陷型光子晶体2的周期N2为4； 高折射率介质层的厚度为30nm，低折射率介质层的厚度为40nm，缺陷层的厚度为67nm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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