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龙图腾网获悉深圳迈塔兰斯科技有限公司申请的专利增透膜的设计方法、装置及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116090245B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310150326.1，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权增透膜的设计方法、装置及电子设备是由姜雯;郝成龙;谭凤泽;朱健设计研发完成，并于2023-02-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本增透膜的设计方法、装置及电子设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种增透膜的设计方法、装置及电子设备，属于超透镜的技术领域。该设计方法包括步骤S1，输入结构参数和膜优化参数，所述结构参数包括超透镜参数、膜系折射率约束、膜系厚度约束；所述膜优化参数包括膜结构类型、膜层数和随机起始点；步骤S2，根据所述结构参数和所述膜优化参数计算超透镜的透过率信息和相位信息；步骤S3，根据所述透过率信息和所述相位信息优化所述结构参数；步骤S4，将所述步骤S3中经优化的结构参数返回所述步骤S1，并重复所述步骤S1至所述步骤S4直至所述结构参数和或所述膜优化参数满足优化算法的停止条件。该设计方法改善了超透镜的透过率。

本发明授权增透膜的设计方法、装置及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种增透膜的设计方法，其特征在于，所述设计方法包括： 步骤S1，输入结构参数和膜优化参数，所述结构参数包括超透镜参数、膜系折射率约束、膜系厚度约束；所述膜优化参数包括膜结构类型、膜层数和随机起始点计算个数； 其中，所述膜结构类型包括： 所述增透膜覆盖超透镜的基底；或 所述增透膜位于所述超透镜的纳米结构的任意一端；或 所述增透膜位于所述纳米结构靠近所述基底的一端和远离所述基底的一端；或 所述增透膜覆盖所述纳米结构远离所述基底的一端和所述基底表面除所述纳米结构之外的部分；或 所述增透膜覆盖所述基底靠近纳米结构一侧的全部表面以及所述纳米结构远离所述基底的一端； 步骤S2，根据所述结构参数和所述膜优化参数计算超透镜的透过率信息和相位信息； 步骤S3，根据所述透过率信息和所述相位信息优化所述结构参数； 步骤S4，将所述步骤S3中优化所得的结构参数返回所述步骤S1，并重复所述步骤S1至所述步骤S3直至所述结构参数和或所述膜优化参数满足优化算法的停止条件。

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