应用材料公司王志刚获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利沉积预蚀刻保护层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116235283B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080103893.6，技术领域涉及：H01L21/3065；该发明授权沉积预蚀刻保护层的方法是由王志刚;杨娇;阿尔弗雷多·格拉纳多;乔恩·C·法尔;王恒;任睿哲设计研发完成，并于2020-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积预蚀刻保护层的方法在说明书摘要公布了：一种循环蚀刻的方法，包括：A在通过掩模104开口108循环蚀刻基板100之前，在掩模104、限定掩模开口108的掩模104的侧壁116以及基板100通过掩模开口108暴露出的暴露部分上方共形地沉积预蚀刻保护层120，预蚀刻保护层120被沉积至第一厚度；及B通过以下步骤循环蚀刻基板100：i在掩模104的开口108中沉积保护层132，保护层132被沉积至小于第一厚度的一半的第二厚度；ii蚀刻穿过设置在基板100上的保护层132的一部分并且蚀刻基板100；和iii重复i及ii直到到达终点。
本发明授权沉积预蚀刻保护层的方法在权利要求书中公布了：1.一种循环蚀刻的方法，包括以下步骤： A在通过掩模的掩模开口循环蚀刻基板之前，在所述掩模、限定所述掩模开口的所述掩模的侧壁以及所述基板通过所述掩模开口暴露出的暴露部分上方共形地沉积预蚀刻保护层，所述预蚀刻保护层被沉积至第一厚度；及 B通过以下步骤循环蚀刻所述基板： i在所述掩模开口中沉积保护层，所述保护层被沉积至第二厚度，所述第二厚度小于所述第一厚度的一半； ii蚀刻穿过设置在所述基板上的所述保护层的一部分，并且蚀刻所述基板，其中所述蚀刻包括在存在施加至所述基板的偏压功率的情况下使所述基板暴露于由含氟气体及氧气形成的等离子体达第一时间段，以及使所述基板暴露于本质上由所述含氟气体形成的等离子体达第二时间段，其中在所述第一时间段期间施加的所述偏压功率大于在所述第二时间段期间施加的偏压功率；以及 iii重复步骤i及ii直到到达终点。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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