拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司王晨获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆键科(海宁)半导体设备有限公司申请的专利用于校准晶圆对准的方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116387220B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111578785.7，技术领域涉及：H01L21/68；该发明授权用于校准晶圆对准的方法及系统是由王晨;马双义设计研发完成，并于2021-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于校准晶圆对准的方法及系统在说明书摘要公布了：本申请涉及一种用于校准晶圆对准的方法。在本申请的一实施例中，所述用于校准晶圆对准的方法包括：提供第一标识板，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，且具有第一标识，所述第一标识位于所述第一标识板的第一表面上；提供第二标识板，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，且具有第二标识，所述第二标识位于所述第二标识板的第一表面上；将所述第一标识板的第一表面与所述第二标识板的第一表面面对面放置；提供显微镜，使所述显微镜在所述第一标识板的第二表面上方对所述第一标识聚焦，并取得第一焦距Z1；取出所述第一标识板，使所述显微镜在所述第二标识板的第一表面上方对所述第二标识聚焦，并取得第二焦距Z2；及确定补偿参数ΔZ，其为所述第二焦距Z2减去所述第一焦距Z1。
本发明授权用于校准晶圆对准的方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种用于校准晶圆对准的方法，其包括： 提供第一标识板，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，且具有第一标识，所述第一标识位于所述第一标识板的第一表面上； 提供第二标识板，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，且具有第二标识，所述第二标识位于所述第二标识板的第一表面上； 将所述第一标识板的第一表面与所述第二标识板的第一表面面对面放置； 提供显微镜，使所述显微镜在所述第一标识板的第二表面上方对所述第一标识聚焦，并取得第一焦距Z1； 取出所述第一标识板，使所述显微镜在所述第二标识板的第一表面上方对所述第二标识聚焦，并取得第二焦距Z2；及 确定补偿参数ΔZ，其为所述第二焦距Z2减去所述第一焦距Z1。
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