武汉理工大学尹勇获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种多级金字塔结构下无效特征点判断及去除方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116681902B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310627357.1，技术领域涉及：G06V10/46；该发明授权一种多级金字塔结构下无效特征点判断及去除方法是由尹勇;邓彪;方永帆设计研发完成，并于2023-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种多级金字塔结构下无效特征点判断及去除方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种多级金字塔结构下无效特征点判断及去除方法，包括：提取图像的特征点；将图像划分为理想与非理想区域；对理想区域内的每个特征点进行唯一性判断，筛选出唯一性差的特征点，并与非理想区域内的特征点一同构成底层无效特征点；建立多级图像金字塔结构，提取各上层级的特征点；基于底层无效特征点以及金字塔层级映射关系对各上层级特征点进行降采样映射判别，将满足降采样映射判别关系的特征点划分为无效特征点；由此去除各层级的无效特征点。本发明在提取图像特征点后进行唯一性判断筛选以及多层级金字塔结构下的非理想区域筛选，剔除了无效特征点，从而达到降低匹配算法无效资源占用的目的，能够大幅度地提高匹配正确率以及速度。
本发明授权一种多级金字塔结构下无效特征点判断及去除方法在权利要求书中公布了：1.一种多级金字塔结构下无效特征点判断及去除方法，其特征在于，包括以下步骤： 提取图像的特征点； 将图像划分为理想区域与非理想区域； 对理想区域内的每个特征点进行唯一性判断，筛选出唯一性差的特征点，并与非理想区域内的特征点一同构成底层无效特征点； 建立多级图像金字塔结构，提取各上层级的特征点； 基于底层无效特征点以及金字塔层级映射关系对各上层级特征点进行降采样映射判别，将满足降采样映射判别关系的特征点划分为无效特征点；其中，降采样映射判别式为： 式中，x与y为各上层级特征点的坐标，x与y为底层无效特征点的坐标，N、N、N与N为邻域尺度，M为降采样因子； 由此去除各层级的无效特征点。
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