罗门哈斯电子材料有限责任公司J·凯茨获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利用于光致抗蚀剂底层的涂料组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117447900B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311164777.7，技术领域涉及：C09D165/00；该发明授权用于光致抗蚀剂底层的涂料组合物是由J·凯茨;刘盛;崔莉;山田晋太郎;S·M·科莱;L-S·科设计研发完成，并于2021-08-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光致抗蚀剂底层的涂料组合物在说明书摘要公布了：用于光致抗蚀剂底层的涂料组合物。提供了一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含聚合物和交联剂，所述聚合物包含具有式1的重复单元：
本发明授权用于光致抗蚀剂底层的涂料组合物在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含： 聚合物和交联剂，所述聚合物包含具有式1的重复单元： 其中 Ar是单环或多环C5-60芳香族基团，其中所述C5-60芳香族基团包含一个或多个芳香族环杂原子、包含杂原子的取代基、或其组合； R1是氢、取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C1-30杂烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C2-30杂环烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C2-30炔基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C7-30烷基芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基、或取代或未取代的C4-30杂芳基烷基；并且 R2是取代或未取代的C1-30烷基、取代或未取代的C1-30杂烷基、取代或未取代的C3-30环烷基、取代或未取代的C2-30杂环烷基、取代或未取代的C2-30烯基、取代或未取代的C2-30炔基、取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C7-30芳基烷基、取代或未取代的C7-30烷基芳基、取代或未取代的C3-30杂芳基、或取代或未取代的C4-30杂芳基烷基， 其中R1和R2任选地一起形成环， 所述聚合物具有500至20000道尔顿的重均分子量Mw，如使用聚苯乙烯标准物通过凝胶渗透色谱法确定， 所述光致抗蚀剂底层组合物不含光酸产生剂。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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