武汉理工大学邹冀获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种低温制备超细单相硼化物及高熵硼化物粉体的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118026694B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410002186.8，技术领域涉及：C04B35/58；该发明授权一种低温制备超细单相硼化物及高熵硼化物粉体的方法是由邹冀;杨海玲;刘晶晶;王为民;傅正义设计研发完成，并于2024-01-02向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低温制备超细单相硼化物及高熵硼化物粉体的方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种低温制备超细单相硼化物及高熵硼化物粉体的方法，以过渡金属氯盐、硝酸盐或低廉有机金属盐为原料，硼酸和蔗糖山梨醇分别为硼源、碳源，柠檬酸或乙酰丙酮acac作为络合剂螯合剂，利用一定分子截留量的透析袋或者采用活化后的强碱性阴离子交换树脂等对制备溶胶进行透析或者阴离子交换以去除前驱体中的NO3‑离子及Cl‑离子等阴离子杂质，随后经过凝胶、干燥、研磨得到前驱体粉末；将前驱体粉末压片、低温煅烧后得到超细单相硼化物及高熵硼化物陶瓷粉体。本发明方法具有原料价格低廉，粉体制备温度低，以及粉体粒径小、分布均匀等优点，利于批量生产，具有良好的实际应用价值。
本发明授权一种低温制备超细单相硼化物及高熵硼化物粉体的方法在权利要求书中公布了：1.一种低温制备超细单相硼化物粉体的方法，其特征在于，包括如下步骤： 将金属源、硼源、碳源、分散剂溶于溶剂中制备溶胶A1，采用透析膜或活化处理之后的强碱性阴离子交换树脂对溶胶A1进行透析或交换处理以去除溶胶A1中的阴离子，得到溶胶B1，随后将溶胶B1凝胶化后经干燥得到干前驱体凝胶C1，将干前驱体凝胶C1进行研磨、压片、高温热解后得到超细单相二硼化物粉体；金属源为含有一种金属元素的金属M源，金属M源来自于该元素的金属硝酸盐MNO3m或者氯盐MClm，其中m值根据金属离子价态决定。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉理工大学，其通讯地址为：430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励