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墨光新能科技(苏州)有限公司孔德兴获国家专利权

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龙图腾网获悉墨光新能科技(苏州)有限公司申请的专利一种显示器膜材料及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118604926B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410816422.X,技术领域涉及:G02B1/10;该发明授权一种显示器膜材料及其制备方法是由孔德兴;宗麟奇;罗茂海;吕彬设计研发完成,并于2024-06-24向国家知识产权局提交的专利申请。

一种显示器膜材料及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种显示器膜材料及其制备方法,显示器膜材料包括基底和设置在基底上的光调控层,所述基底为光学透明材料,所述光调控层为低折射率材料与高折射率材料交错叠加形成,低折射率材料与高折射率材料的折射率之差大于0.4,光线经过所述光调控层和所述基底作用后可实现可见光透过率90%以上,近红外阻隔率最高达80%以上,且在940~1000nm处高透,中红外发射率达90%以上,最终实现3‑8度的降温效果。

本发明授权一种显示器膜材料及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种显示器膜材料,其特征在于:包括基底和设置在基底上的光调控层,所述基底在400~780nm波段吸收率小于5%,透过率大于80%,在900~1400nm波段吸收率小于5%,所述光调控层为低折射率材料与高折射率材料交错叠加形成,所述光调控层靠近基底的材料层为高折射率层,低折射率材料与高折射率材料的折射率之差大于0.5;在光调控层的厚度方向上,任意一个25nm~500nm的厚度区间内,至少设置有两层折射率差值为0.5~0.8的材料;所述光调控层通过第一有机层设置在所述基底上,所述第一有机层在400~780nm波段光吸收率低于5%;在基底背对光调控层的一侧设置第二有机层或在所述光调控层背对基底的一侧设置第二有机层;光线经过所述光调控层和所述基底作用后在400~780nm波段的透过率大于80%,8~13μm波段的发射率大于85%,900~1400nm波段中除去940~1100nm波段后的反射率大于70%,940~1000nm透过率大于80%;所述显示器膜材料用于集成有传感器的显示器件上; 光调控层中各层材料及厚度设置选自A、B、C中的一种,其中, A为 所在层 材料 厚度nm 1 TIO2 14.47 2 SIO2 28.57 3 TIO2 114.7 4 SIO2 36.54 5 TIO2 13 6 SIO2 99.42 7 TIO2 16.98 8 SIO2 30.36 9 TIO2 144.72 10 SIO2 25 11 TIO2 26.29 12 SIO2 192.99 13 TIO2 108.41 14 SIO2 184.96 15 TIO2 38.51 16 SIO2 28.88 17 TIO2 27.35 18 SIO2 373.2 19 TIO2 25.28 20 SIO2 33.09 21 TIO2 35.37 22 SIO2 186.66 23 TIO2 109.58 24 SIO2 194.07 25 TIO2 26.55 26 SIO2 25 27 TIO2 148.09 28 SIO2 32.22 29 TIO2 17.21 30 SIO2 112.23 31 TIO2 14.17 32 SIO2 37.89 33 TIO2 137.03 34 SIO2 25 35 TIO2 35.18 36 SIO2 40.65 37 TIO2 27.6 38 SIO2 50.02 39 TIO2 13 ; B为 所在层 材料 厚度nm 1 TIO2 14.08 2 SIO2 27.38 3 TIO2 112.05 4 SIO2 31.6 5 TIO2 17.57 6 SIO2 75.99 7 TIO2 18.9 8 SIO2 32.78 9 TIO2 141.74 10 SIO2 27 11 TIO2 25.11 12 SIO2 194.84 13 TIO2 109.22 14 SIO2 175.86 15 TIO2 117.77 16 SIO2 46.39 17 TIO2 12 18 SIO2 263.95 19 TIO2 25.19 20 SIO2 32.87 21 TIO2 35.99 22 SIO2 188.33 23 TIO2 110.48 24 SIO2 194.35 25 TIO2 25.65 26 SIO2 27 27 TIO2 151.49 28 SIO2 27 29 TIO2 21.93 30 SIO2 233.95 31 TIO2 14.75 32 SIO2 63.54 33 TIO2 27.16 34 SIO2 31.28 35 TIO2 123.53 36 SIO2 91.58 ; C为 所在层 材料 厚度nm 1 TA2O5 15.81 2 SIO2 28.57 3 TA2O5 125.35 4 SIO2 36.54 5 TA2O5 14.21 6 SIO2 99.42 7 TA2O5 18.56 8 SIO2 30.36 9 TA2O5 158.15 10 SIO2 25 11 TA2O5 28.74 12 SIO2 192.99 13 TA2O5 118.47 14 SIO2 184.96 15 TA2O5 42.08 16 SIO2 28.88 17 TA2O5 29.89 18 SIO2 373.2 19 TA2O5 27.63 20 SIO2 33.09 21 TA2O5 38.65 22 SIO2 186.66 23 TA2O5 119.76 24 SIO2 194.07 25 TA2O5 29.02 26 SIO2 25 27 TA2O5 161.84 28 SIO2 32.22 29 TA2O5 18.81 30 SIO2 112.23 31 TA2O5 15.49 32 SIO2 37.89 33 TA2O5 149.76 34 SIO2 25 35 TA2O5 38.44 36 SIO2 40.65 37 TA2O5 30.17 38 SIO2 50.02 39 TA2O5 14.21 。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人墨光新能科技(苏州)有限公司,其通讯地址为:215151 江苏省苏州市高新区金燕路8号阳山科技工业园8栋;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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