广东工业大学霍延平获国家专利权
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龙图腾网获悉广东工业大学申请的专利全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118984596B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411065611.4，技术领域涉及：H10K30/50；该发明授权全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用是由霍延平;刘曼婷;杨庆旦设计研发完成，并于2024-08-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用在说明书摘要公布了：本发明公开了全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用。本发明的全氟酞菁铜作为埋底界面修饰剂可以改善钙钛矿层和空穴传输层之间的界面接触，高度氟化的全氟酞菁铜产生更为疏水的埋底界面，促使钙钛矿晶粒纵向生长，调节钙钛矿层的结晶生长和形貌，从而更有利于加速载流子的传输。同时，氟原子具有较强的电负性，可以有效抑制钙钛矿层和空穴传输层间有害的氧化还原反应，减少非辐射复合，实现了提高太阳能电池的光电转化效率和稳定性的目的。
本发明授权全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用在权利要求书中公布了：1.全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用，其特征在于， 将全氟酞菁铜和溶剂混合使用，混合液中全氟酞菁铜的浓度为0.1~0.6mgmL；混合液通过旋涂在空穴传输层与钙钛矿层之间进行使用； 所述空穴传输层的材料为聚[双4-苯基2,4,6-三甲基苯基胺]；所述钙钛矿层的材料为甲基碘化铵和碘化铅； 所述全氟酞菁铜具有式1所示分子结构： 式1。
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