珠海莫界科技有限公司陈廷忠获国家专利权
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龙图腾网获悉珠海莫界科技有限公司申请的专利纳米压印光刻胶及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119024644B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411021684.3，技术领域涉及：G03F7/075；该发明授权纳米压印光刻胶及其制备方法是由陈廷忠;周兴;王兆民设计研发完成，并于2024-07-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本纳米压印光刻胶及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种纳米压印光刻胶及其制备方法，涉及纳米压印技术领域。该制备方法包括：提供笼型聚倍半硅氧烷低聚物、单官能团功能单体、有机硅烷、助剂、光引发剂和有机溶剂；利用所述笼型聚倍半硅氧烷低聚物、单官能团功能单体、有机硅烷、助剂、光引发剂和有机溶剂，制备得到所述纳米压印光刻胶。本申请旨在解决现有的光刻胶的抗蚀刻性能和刻蚀选择比较低，从而影响了光学性能的问题。
本发明授权纳米压印光刻胶及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种纳米压印光刻胶，其特征在于，所述纳米压印光刻胶由以下原料制得：笼型聚倍半硅氧烷低聚物、单官能团功能单体、多官能团丙烯酸酯单体和或多官能团乙烯基醚单体、有机硅烷、助剂、光引发剂和有机溶剂，所述单官能团功能单体具有脂环结构； 其中，以重量百分比计，所述笼型聚倍半硅氧烷低聚物的含量为15%-30%，所述单官能团功能单体的含量为5%-10%，所述多官能团丙烯酸酯单体和或所述多官能团乙烯基醚单体的含量为5%-10%，所述有机硅烷的含量为1%-5%，所述助剂的含量为1%-3%，所述光引发剂的含量为1%-3%，所述有机溶剂的含量为50%-70%。
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