华海清科股份有限公司孟松林获国家专利权
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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119115785B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411348835.6，技术领域涉及：B24B37/04；该发明授权用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备是由孟松林;路新春;程子政;张洪蛟;王科设计研发完成，并于2024-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备。承载头包括：承载头主体；设置于承载头主体朝向晶圆的一侧的保持环，保持环将晶圆限定在其中；防滑片机构，其至少部分地设置在保持环中，防滑片机构配置成可轴向伸缩，以在保持环抵靠抛光单元时缩回到保持环中，并在保持环与抛光单元轴向分开时从保持环伸出，防滑片机构由耐腐蚀性材料制成。根据本申请的技术方案，有效避免了晶圆滑出，减少了晶圆破碎的风险，并保证了防滑片机构的有效性。
本发明授权用于晶圆加工的承载头及化学机械抛光设备在权利要求书中公布了：1.一种用于晶圆加工的承载头，其特征在于，所述承载头包括： 承载头主体； 设置于所述承载头主体朝向晶圆的一侧的保持环，所述保持环将所述晶圆限定在其中；通过调整保持环的压力，使承载头下方的抛光垫局部变形，来调控晶圆边缘去除速率； 防滑片机构，其至少部分地设置在所述保持环中，所述防滑片机构配置成可轴向伸缩，以在所述保持环抵靠抛光单元时缩回到所述保持环中，并在保持环与抛光单元之间压力较小而轴向分开导致晶圆具有径向滑出的趋势时、或由于保持环与抛光单元之间的摩擦力较大导致承载头偏斜而致使晶圆具有径向滑出的趋势时从所述保持环伸出，以避免晶圆滑出并扩大保持环的压力调节范围；所述防滑片机构由耐腐蚀性材料制成； 所述防滑片机构包括轴向贯通的防滑片座和穿过防滑片座的防滑片主体；防滑片座设置在所述保持环中，防滑片主体配置成相对于滑片座可轴向移动并能够从保持环伸出；防滑片主体包括设置在其朝向抛光单元的一端的滚珠组件，防滑片主体通过滚珠组件与抛光单元滚动接触。
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