四川大学李高伟获国家专利权
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龙图腾网获悉四川大学申请的专利一种半菁类光敏剂及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119119065B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411193780.6，技术领域涉及：C07D491/052；该发明授权一种半菁类光敏剂及其制备方法和应用是由李高伟;周良学;范红松;蒋世超;刘晓银;蔡林君设计研发完成，并于2024-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半菁类光敏剂及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种半菁类光敏剂及其制备方法和应用，属于生物医药领域。本发明通过供体替代工程开发了具有D‑π‑A结构的半菁染料基分子，该半菁染料基分子的结构如式I所示。该半菁染料基分子具有优异的光谱性能。本发明基于该半菁染料基分子进一步构建的PLH1100纳米组装体具有优异的脑靶向性、肿瘤富集性、光稳定性和生物相容性，以及出色的光热转换效率和NIR‑II肿瘤成像能力，适用于脑胶质母细胞瘤的光热免疫疗法。此外，本发明还发现，PLH1100能够显著增强针对Fn14靶点的双特异性T细胞衔接器Fn14×CD3BiTE的疗效，PLH1100与Fn14×CD3BiTE衔接器的联用在光热免疫疗法中发挥了协同增效的作用，为临床治疗胶质母细胞瘤开辟了新途径，具有显著的临床应用潜力。
本发明授权一种半菁类光敏剂及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种半菁染料基分子，其特征在于，它的结构如式I所示： 式I 其中，R1选自氢、C1-3烷基，R2选自氢、C1-3烷基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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