深圳市联得半导体技术有限公司李立辉获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市联得半导体技术有限公司申请的专利清洁装置及半导体设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119175655B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411191935.2，技术领域涉及：B24B55/06；该发明授权清洁装置及半导体设备是由李立辉;赖太辛;叶伟乐;肖康南设计研发完成，并于2024-08-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洁装置及半导体设备在说明书摘要公布了：本申请涉及一种清洁装置及半导体设备，所述清洁装置可用于对半导体设备的共晶头进行清洁。所述清洁装置包括清洁台、研磨件、扫刷件以及驱动机构。所述研磨件和所述扫刷件均设于所述清洁台上，所述驱动机构与所述清洁台连接并用于带动所述清洁台运动至待工位置和工作位置，在所述工作位置时，所述清洁台位于所述共晶头下方，所述研磨件用于研磨所述共晶头，所述扫刷件用于扫刷所述共晶头。
本发明授权清洁装置及半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种清洁装置，用于对半导体设备的共晶头进行清洁，其特征在于，所述清洁装置包括： 清洁台； 研磨件，所述研磨件设于所述清洁台上； 扫刷件，所述扫刷件设于所述清洁台上； 驱动机构，所述驱动机构与所述清洁台连接并用于带动所述清洁台运动至待工位置和工作位置，在所述工作位置时，所述清洁台位于所述共晶头下方，所述研磨件用于研磨所述共晶头，所述扫刷件用于扫刷所述共晶头； 其中，所述清洁台包括框架、第一支架和第二支架，所述研磨件和所述扫刷件设于所述第一支架的顶部，所述第一支架嵌套于所述第二支架内，所述第二支架嵌套于所述框架内，且所述第一支架能够在第一转动方向上相对所述第二支架转动，所述第二支架能够在第二转动方向上相对所述框架转动，以将所述研磨件的研磨面与所述共晶头的端面调整至平行。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人深圳市联得半导体技术有限公司，其通讯地址为：518131 广东省深圳市龙华区观湖街道樟溪社区下围工业区一路1号L栋101；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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