西安奕斯伟材料科技股份有限公司贺云鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司申请的专利一种边缘抛光的检测方法、装置及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119427120B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411582865.3，技术领域涉及：B24B9/06；该发明授权一种边缘抛光的检测方法、装置及介质是由贺云鹏;王明设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种边缘抛光的检测方法、装置及介质在说明书摘要公布了：本公开提供了一种边缘抛光的检测方法、装置及介质；该检测方法包括：通过激光束在已完成边缘磨削工序的测试晶圆的边缘部分均匀地形成凹洞；根据每个凹洞的内壁形态检测由所述边缘磨削工序所产生的亚表面损伤深度；根据所述亚表面损伤深度确定边缘抛光工序的抛光去除量。
本发明授权一种边缘抛光的检测方法、装置及介质在权利要求书中公布了：1.一种边缘抛光的检测方法，其特征在于，所述边缘抛光的检测方法包括： 通过激光束在已完成边缘磨削工序的测试晶圆的边缘部分均匀地形成凹洞； 根据每个凹洞的内壁形态检测由所述边缘磨削工序所产生的亚表面损伤深度； 根据所述亚表面损伤深度确定边缘抛光工序的抛光去除量； 其中，所述根据每个凹洞的内壁形态检测由所述边缘磨削工序所产生的亚表面损伤深度，包括： 获取每个凹洞的内壁形态的图像； 识别出每个图像中的由每个凹洞边缘延伸至每个凹洞内部的裂纹； 根据每个凹洞内部的所述裂纹的长度确定所述亚表面损伤深度； 其中，在所述测试晶圆按照所述抛光去除量执行所述边缘抛光工序后，所述方法还包括： 当所述测试晶圆的边缘部分的凹洞仍然存在时，根据每个凹洞的内壁形态检测是否存在亚表面损伤； 当不存在所述亚表面损伤时，将所述测试晶圆再次进行边缘抛光以消除所述凹洞； 其中，在所述测试晶圆按照所述抛光去除量执行所述边缘抛光工序后，所述方法还包括：当所述测试晶圆的边缘部分的凹洞不存在时，将所述测试晶圆执行最终抛光工序。
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