歌尔光学科技有限公司程鑫获国家专利权
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龙图腾网获悉歌尔光学科技有限公司申请的专利衍射光学结构、非耦入区衍射效率的调控方法及光学设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119738962B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411847136.6,技术领域涉及:G02B27/01;该发明授权衍射光学结构、非耦入区衍射效率的调控方法及光学设备是由程鑫;沈浪;董立超设计研发完成,并于2024-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本衍射光学结构、非耦入区衍射效率的调控方法及光学设备在说明书摘要公布了:本申请实施例公开了一种衍射光学结构、非耦入区衍射效率的调控方法及光学设备;所述衍射光学结构包括基底及设于基底的至少一个耦入区和至少一个耦出区;其中,所述耦入区用于将外界的光线耦入至所述基底中,所述耦出区用于将所述光线扩瞳并耦出;所述耦出区设置有具有残留层的耦出光栅,且所述残留层在所述耦出光栅的不同位置处具有设定的厚度变化趋势,用以调控光线的耦出强度;所述残留层与所述基底的折射率不同,且两者之间的折射率差异为△n,0.1≤△n≤0.8;所述耦出区被配置为,在光线沿着所述衍射光学结构的长度方向传输的过程中,通过所述残留层厚度变化趋势调控所述耦出光栅的衍射效率曲线峰值位置。
本发明授权衍射光学结构、非耦入区衍射效率的调控方法及光学设备在权利要求书中公布了:1.一种衍射光学结构,其特征在于,包括基底1及设置于所述基底1的: 至少一个耦入区2,用于将外界的光线耦入至所述基底1中; 至少一个耦出区3,用于将所述光线扩瞳并耦出; 所述耦出区3设置有具有残留层4的耦出光栅,且所述残留层4在所述耦出光栅的不同位置处具有设定的厚度变化趋势,用以调控光线的耦出强度; 所述残留层4与所述基底1的折射率不同,且两者之间的折射率差异为△n,0.1≤△n≤0.8; 所述耦出区3被配置为,在光线沿着所述衍射光学结构的长度方向传输的过程中,通过所述残留层4厚度变化趋势调控所述耦出光栅的衍射效率曲线峰值位置,以实现光线在所述耦出区3不同位置的均匀耦出; 在所述光线沿着所述衍射光学结构的长度方向传输的过程中,所述残留层4的厚度逐渐减小,使得所述耦出光栅的衍射效率曲线峰值位置随着所述光线的传输路径逐渐从大角度向小角度移动; 所述残留层4的厚度为RSL,RSL*△n=C,C为常数,且2mm≤C≤60mm。
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