电子科技大学戴丽萍获国家专利权
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龙图腾网获悉电子科技大学申请的专利一种双通带滤波巴伦获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119833922B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510284372.X,技术领域涉及:H01P5/10;该发明授权一种双通带滤波巴伦是由戴丽萍;王贺宇;曾勃;邓新武设计研发完成,并于2025-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双通带滤波巴伦在说明书摘要公布了:本发明公开了一种双通带滤波巴伦,其涉及射频无线技术领域。包括:单通带滤波巴伦包括:顶层微带、地金属I,地金属II、底层微带和多个金属过孔;顶层微带与地金属I之间设置第一层间介质,在地金属I和地金属II之间设置第二层间介质,地金属II与底层微带之间设置第三层间介质;多个金属过孔自上而下贯穿顶层微带、第一层间介质、地金属I、第二层间介质、地金属II、第三层间介质和底层微带;在地金属I和地金属II的中心处凿设相同大小的开窗,顶层微带和底层微带均设有两个单通带谐振腔;在单通带谐振腔下方各增添一个耦合谐振腔,得到双通带滤波巴伦。本发明能提供更大的耦合强度并为设计提供更大的设计自由度。
本发明授权一种双通带滤波巴伦在权利要求书中公布了:1.一种双通带滤波巴伦,其特征在于,包括:单通带滤波巴伦、耦合谐振腔R3、耦合谐振腔R4、耦合谐振腔R3´和耦合谐振腔R4´,所述单通带滤波巴伦自上而下包括:顶层微带、地金属I,地金属II、底层微带和多个金属过孔; 所述顶层微带与所述地金属I之间设置第一层间介质,在地金属I和地金属II之间设置第二层间介质,所述地金属II与所述底层微带之间设置第三层间介质;所述多个金属过孔自上而下贯穿所述顶层微带、所述第一层间介质、所述地金属I、所述第二层间介质、所述地金属II、所述第三层间介质和所述底层微带;在所述地金属I和所述地金属II的中心处凿设相同大小的开窗,所述开窗用于所述顶层微带和所述底层微带之间的耦合;所述顶层微带和所述底层微带均设有两个单通带谐振腔; 在所述顶层微带中的单通带谐振腔R1下方的地金属I设置所述耦合谐振腔R3,在所述顶层微带中的单通带谐振腔R2下方的地金属I设置所述耦合谐振腔R4;在所述底层微带中的单通带谐振腔R1´上方的地金属II设置所述耦合谐振腔R3´,在所述底层微带中的单通带谐振腔R2´上方的地金属II设置所述耦合谐振腔R4´,得到双通带滤波巴伦; 所述顶层微带中还设有第一微带线,所述底层微带还设有第二微带线和第三微带线;顶层微带中的单通带谐振腔R1和单通带谐振腔R2连接所述第一微带线的不平衡端口,底层微带中的单通带谐振腔R1´分别连接所述第二微带线的平衡端口和所述第三微带线的平衡端口,底层微带中的单通带谐振腔R2´分别连接所述第二微带线的平衡端口和所述第三微带线的平衡端口。
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