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一道新能源科技股份有限公司张寻寻获国家专利权

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龙图腾网获悉一道新能源科技股份有限公司申请的专利一种IBC电池及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119866088B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311371537.4,技术领域涉及:H10F71/00;该发明授权一种IBC电池及其制备方法是由张寻寻;孙亚楠;章康平;王建明;介雷;胥星星;周锦凤;黄晨茹设计研发完成,并于2023-10-20向国家知识产权局提交的专利申请。

一种IBC电池及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明实施例提供了一种IBC电池及其制备方法,其中,本发明实施例中,硼掺杂后对P区进行激光氧化,可以形成更加致密、阻挡性能更强的硼硅玻璃层掩膜,不仅使得所制备的p型掺杂区域具有高表面浓度、高钝化性能、低接触电阻的优点,也避免了阻挡或刻蚀浆料印刷带来的污染问题,且制作精度及产能更高,适合大批量生产。

本发明授权一种IBC电池及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种IBC电池的制备方法,其特征在于,包括: 在单晶硅片背面依次形成第一氧化硅层、第一多晶硅层,并对所述第一多晶硅层进行硼掺杂; 对硼掺杂后的所述硅片进行链式酸洗; 对链式酸洗后所述硅片背面第一区域进行激光氧化处理,形成氧化层;所述第一区域用于形成p型掺杂区域; 对激光氧化处理后的所述硅片进行双面碱刻蚀处理; 在双面碱刻蚀处理的所述硅片背面依次形成第二氧化硅层、第二多晶硅层,并对所述第二多晶硅层的进行磷掺杂; 去除磷掺杂后所述硅片背面第二区域以外的磷硅玻璃层,所述第二区域与第一区域叉指状间隔排列; 在去除所述第二区域以外的的磷硅玻璃层后,酸洗去除所述硅片正面的磷硅玻璃层,并对所述硅片进行刻蚀及制绒处理,暴露出叉指状间隔排列的n型掺杂区域和p型掺杂区域; 在进行刻蚀及制绒处理后,在硅片双面形成钝化膜层及减反射膜层,并在背面形成与所述p型掺杂区域导通的正极栅线、以及与所述n型掺杂区域导通的负极栅线,制得IBC电池。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人一道新能源科技股份有限公司,其通讯地址为:324022 浙江省衢州市百灵南路43号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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