西安交通大学王亚强获国家专利权
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龙图腾网获悉西安交通大学申请的专利一种具有异质共格界面的Cr/TaWMoCrZr纳米多层涂层及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119956296B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510236496.0，技术领域涉及：C23C14/14；该发明授权一种具有异质共格界面的Cr/TaWMoCrZr纳米多层涂层及制备方法是由王亚强;薛瑶瑶;张金钰;吴凯;刘刚;孙军设计研发完成，并于2025-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种具有异质共格界面的Cr/TaWMoCrZr纳米多层涂层及制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种具有异质共格界面的CrTaWMoCrZr纳米多层涂层及制备方法，属于材料表面改性领域，该纳米多层涂层包括交替叠层设置的Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层；所述Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层的晶体相组织结构均为BCC，所述Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层间的界面为异质共格界面；采用磁控溅射沉积法在基体上制备CrTaWMoCrZr纳米多层涂层，由于Cr的模板效应，使得原先非晶态的TaWMoCrZr通过外延生长形成了BCC的晶体结构，与Cr有着相同的择优取向，极大的调控了微观结构，形成了异质共格界面，该具有异质共格界面的CrTaWMoCrZr纳米多层涂层具有均匀的微观组织、良好的抗腐蚀氧化性能、耐辐照性能以及优异高温组织稳定性和力学性能。
本发明授权一种具有异质共格界面的Cr/TaWMoCrZr纳米多层涂层及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种具有异质共格界面的CrTaWMoCrZr纳米多层涂层，其特征在于，包括交替叠层设置的Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层； 所述Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层的晶体相组织结构均为BCC，所述Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层间的界面为异质共格界面； 所述TaWMoCrZr难熔高熵合金层，Ta、W、Mo、Cr、Zr五种元素原子百分数之比为1:1:1:1:1； 同一调制周期中Cr层和TaWMoCrZr难熔高熵合金层的调制比为1:1，厚度为10～100nm； 所述CrTaWMoCrZr纳米多层涂层的厚度为1.6~5μm。
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