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龙图腾网获悉理研研磨科技(常州)有限公司申请的专利一种高精密化学机械抛光加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120023749B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510182137.1，技术领域涉及：B24B37/00；该发明授权一种高精密化学机械抛光加工方法是由何乖;何玥;何春胜设计研发完成，并于2025-02-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高精密化学机械抛光加工方法在说明书摘要公布了：本发明涉及抛光加工技术领域，具体为一种高精密化学机械抛光加工方法。本发明克服了现有技术中化学机械抛光难以兼顾低表面粗糙度和高抛光效率的问题。本发明通过分步抛光工艺，依次进行一次机械抛光、预抛光、二次机械抛光和精抛光，利用不同粒径二氧化硅磨粒以及添加剂制备得到预抛光液和精抛光液，优化抛光液配方，调整精抛光液pH值；控制预抛光垫以及精抛光垫的沟槽深度，协同二氧化硅负载的精抛光垫提高抛光效率。该方法有效降低表面粗糙度至纳米级，提高抛光效率，降低生产成本，对金属加工行业具有重要意义。

本发明授权一种高精密化学机械抛光加工方法在权利要求书中公布了：1.一种高精密化学机械抛光加工方法，其特征在于：所述高精密化学机械抛光加工方法包括步骤： S1将待抛光料通过砂纸进行一次机械抛光，制得处理抛光料； S2将所述处理抛光料浸入预抛光液中，使用预抛光垫进行抛光得到预抛光料； S3将所述预抛光料通过砂纸进行二次机械抛光，得到再处理抛光料； S4将所述再处理抛光料浸入精抛光液中，使用精抛光垫进行抛光得到精抛光料； S5将所述精抛光料通过乙醇清洗，去离子水润洗，得到抛光料； 其中所述预抛光液包括二氧化硅磨粒、30％过氧化氢溶液和乙二胺二琥珀酸； 所述精抛光液包括二氧化硅磨粒、十二烷基硫酸钠、磷酸盐缓冲剂和其它助剂； 所述精抛光垫通过改性聚氨酯充填于铝合金模具中制备得到； 所述改性聚氨酯包括聚氨酯原料、二氧化硅粉、环氧树脂和助剂； 所述精抛光垫的制备包括以下步骤：将所述二氧化硅粉100份和所述助剂依次加入搅拌机中，100rpm搅拌10min，混合均匀得到混合体系；向所述混合体系中加入30份所述环氧树脂，300rpm搅拌30min得到浆料；将所述聚氨酯原料喷砂处理，选用粒径为0.5mm的石英砂，喷砂压力控制在0.5MPa，处理10min得到处理聚氨酯；将所述处理聚氨酯采用浸涂的方式，完全浸入所述浆料中，浸泡10min，再放入烘箱中进行固化，80℃预固化1h，然后升温至140℃，固化3h得到所述改性聚氨酯；将所述改性聚氨酯参照所述预抛光垫的填模，脱模过程得到所述精抛光垫；其中所述精抛光垫的沟槽深度为0.2-0.5mm，沟槽宽度为1.2mm，沟槽间距为5mm；所述助剂包括聚乙烯醇10份、端羧基丁腈橡胶5份和5份抗氧化剂1010。

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