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龙图腾网获悉沈阳腾鳌真空技术有限公司申请的专利一种氯化物气相沉积装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120519833B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511013590.6，技术领域涉及：C23C16/458；该发明授权一种氯化物气相沉积装置是由慈连鳌;刘明设计研发完成，并于2025-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种氯化物气相沉积装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种氯化物气相沉积装置，属于气相沉积技术领域；氯化物气相沉积装置包括：工作台、反应室机构、供气机构、喷淋盒组件、供气管道、高频电源、电感线圈、升降机构、安装座、石墨支撑筒组件、样品托组件和真空机构；通过使升降机构带动安装座上下移动，将石墨支撑筒组件安装在安装座上，并将样品托组件安装在石墨支撑筒组件内，以实现升降机构能够带动个石墨支撑筒组件和样品托组件上下移动，从而实现石墨支撑筒组件和样品托组件既能进入反应室机构内，也能使石墨支撑筒组件和样品托组件从反应室机构内移出，进而便于工作人员对样品进行更换，以提升产品的使用体验。

本发明授权一种氯化物气相沉积装置在权利要求书中公布了：1.一种氯化物气相沉积装置，其特征在于，所述氯化物气相沉积装置包括： 工作台，所述工作台的顶部设置有让位孔； 反应室机构，所述反应室机构安装在所述工作台上，且所述反应室机构与所述让位孔相对； 供气机构，所述供气机构安装在所述工作台上，且所述供气机构位于所述反应室机构的一侧； 喷淋盒组件，所述喷淋盒组件为中空腔体，所述喷淋盒组件位于所述反应室机构内，且所述喷淋盒组件的底部设置有多个喷淋孔； 供气管道，所述供气管道的一端与所述喷淋盒组件的顶部相连通，所述供气管道穿过所述反应室机构的顶部，且所述供气管道的另一端与所述供气机构相连通； 高频电源，所述高频电源安装在所述工作台上； 电感线圈，所述电感线圈绕设在所述反应室机构的外侧，且所述电感线圈与所述高频电源电连接； 升降机构，所述升降机构安装在所述工作台内； 安装座，所述安装座与所述升降机构相连接，所述安装座与所述让位孔相对，且所述安装座与所述反应室机构的底部相贴合； 石墨支撑筒组件，所述石墨支撑筒组件为两端具有开口的中空腔体，所述石墨支撑筒组件安装在所述安装座上，所述石墨支撑筒组件位于所述反应室机构内，且所述石墨支撑筒组件与所述喷淋盒组件的底部相贴合； 样品托组件，所述样品托组件安装在所述石墨支撑筒组件内，且所述样品托组件位于所述喷淋盒组件的下方； 真空机构，所述真空机构位于所述工作台的一侧，且所述真空机构与所述反应室机构的内部相连通。

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