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龙图腾网获悉上海谙邦半导体设备有限公司申请的专利用于反应腔的清洁系统及清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120679784B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511170875.0，技术领域涉及：B08B7/02；该发明授权用于反应腔的清洁系统及清洁方法是由徐昕;王兆祥;桂智谦;涂乐义;梁洁;仲凯;方子豪;曹天俊;谭小龙设计研发完成，并于2025-08-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于反应腔的清洁系统及清洁方法在说明书摘要公布了：本发明涉及半导体加工设备技术领域，尤其涉及一种用于反应腔的清洁系统及清洁方法，包括残留物检测单元，设于反应腔内，用于检测所述反应腔的内壁上沉积副产物的浓度；振动清洁单元，包括多个振动部件，每一个所述振动部件的振动端与所述反应腔的腔体壁抵接；清洁控制单元，与所述残留物检测单元和所述振动清洁单元通信连接，用于根据所述残留物检测单元的检测结果，控制所述振动清洁单元中多个振动部件以在所述反应腔的腔体壁上产生周期性振动；本发明通过振动清洁和气体清洁两种工序协同工作，确保清洁后的反应腔内不会残留副产物，这样可以有效避免清洁工序的重复性，提高产品良率，同时，又可以减缓设备老化，延长设备的使用寿命。

本发明授权用于反应腔的清洁系统及清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种用于反应腔的清洁系统，其特征在于，应用于等离子体处理设备反应腔的内壁上沉积副产物的清除，包括： 残留物检测单元，设于反应腔内，用于检测所述反应腔的内壁上沉积副产物的浓度； 振动清洁单元，包括多个振动部件，每一个所述振动部件的振动端与所述反应腔的腔体壁抵接；所述振动部件包括：压电陶瓷片；所述压电陶瓷片通过粘接件粘接于所述反应腔的腔体夹层或安装槽内；所述压电陶瓷片产生的振动频率范围为40kHz至100kHz； 清洁控制单元，与所述残留物检测单元和所述振动清洁单元通信连接，用于根据所述残留物检测单元的检测结果，控制所述振动清洁单元中多个振动部件以在所述反应腔的腔体壁上产生周期性振动，以清除沉积在所述反应腔的内壁上的沉积副产物； 所述清洁系统还包括气清洁单元，其送气口设于反应腔的壁上，用于向所述反应腔内输入清洁气体，以清除所述反应腔内悬浮副产物。

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