西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司王鹏飞获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利一种晶圆抛光设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223477301U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202423076606.1,技术领域涉及:B24B29/02;该实用新型一种晶圆抛光设备是由王鹏飞;黄兆皓设计研发完成,并于2024-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆抛光设备在说明书摘要公布了:本公开提供一种晶圆抛光设备,包括:用于暂存多片待抛光的晶圆的上料缓存区;用于对晶圆进行抛光处理的抛光装置;用于暂存已抛光的晶圆的下料缓存区;用于对已抛光的晶圆进行清洗、干燥处理的清洗干燥区;用于承接来自清洗干燥区的晶圆的最终下料区;用于在上料缓存区、抛光装置、下料缓存区、清洗干燥区及最终下料区之间转移晶圆的晶圆转移机构;用于控制上料缓存区、抛光装置、下料缓存区、清洗干燥区、最终下料区及晶圆转移机构的工作状态的控制单元,控制单元分别与上料缓存区、抛光装置、下料缓存区、清洗干燥区、最终下料区及晶圆转移机构连接。本公开的晶圆抛光设备能够实现晶圆抛光工艺段的自动上下料作业,提高生产效率。
本实用新型一种晶圆抛光设备在权利要求书中公布了:1.一种晶圆抛光设备,其特征在于,包括: 用于暂存多片待抛光的晶圆的上料缓存区; 用于对晶圆进行抛光处理的抛光装置; 用于暂存已抛光的晶圆的下料缓存区; 用于对已抛光的晶圆进行清洗、干燥处理的清洗干燥区; 用于承接来自所述清洗干燥区的晶圆的最终下料区; 用于在所述上料缓存区、所述抛光装置、所述下料缓存区、所述清洗干燥区及所述最终下料区之间转移晶圆的晶圆转移机构;及 用于控制所述上料缓存区、所述抛光装置、所述下料缓存区、所述清洗干燥区、所述最终下料区及所述晶圆转移机构的工作状态的控制单元,所述控制单元分别与所述上料缓存区、所述抛光装置、所述下料缓存区、所述清洗干燥区、所述最终下料区及所述晶圆转移机构连接。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司,其通讯地址为:710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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