南京理工大学李强获国家专利权
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龙图腾网获悉南京理工大学申请的专利一种用于单晶硅生长炉的水冷屏获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223481341U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422844725.0，技术领域涉及：C30B15/00；该实用新型一种用于单晶硅生长炉的水冷屏是由李强;刘佳;刘锋;茹贝柠;黄轲;周可鑫设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于单晶硅生长炉的水冷屏在说明书摘要公布了：本实用新型提供了一种用于单晶硅生长炉的水冷屏，属于单晶硅材料生产设备领域。所述水冷屏包括进液口、出液口、远硅液端部、中部及近硅液端部；所述水冷屏具有空腔，且腔体内部具有流道；近硅液端部包括内壁、底面和外壁，所述内壁是竖直的，板面厚度由上至下呈梯度递减；底面为与水平面呈预设倾角的斜面；且底面的近硅液面及外壁增加反光层抛光层。本实用新型增大了对硅液热辐射的反射率，减少了辐射吸收，并提高了对硅棒的降温效果，另外，减弱了水冷屏外侧的对流换热，进而减少了水冷屏对外侧热量的吸收，一方面提高了热屏的保温效果，另一方面降低了能耗，从而节省了生产成本，并提高了生产效率。
本实用新型一种用于单晶硅生长炉的水冷屏在权利要求书中公布了：1.一种用于单晶硅生长炉的水冷屏，包括：进液口21、出液口22、远硅液端部23、中部24及近硅液端部25；所述水冷屏20具有空腔250，且腔体内部具有流道；其特征在于， 近硅液端部25包括内壁251、底面253和外壁252，所述内壁251是竖直的，板面厚度由上至下呈梯度递减；底面253为具有与水平面呈预设倾角的斜面，斜面与内壁251成锐角。
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