上海新微技术研发中心有限公司王诗男获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新微技术研发中心有限公司申请的专利一种微细结构的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114477072B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011262925.5，技术领域涉及：B81C1/00；该发明授权一种微细结构的制造方法是由王诗男设计研发完成，并于2020-11-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种微细结构的制造方法在说明书摘要公布了：本申请提供一种微细结构的制造方法，包括：在基板的上表面形成第一牺牲层；在该第一牺牲层的上表面形成隔离层；在该隔离层的上表面形成第一悬浮结构的图形；在该隔离层的上表面形成第二牺牲层，所述第二牺牲层覆盖所述第一悬浮结构的图形；在该第二牺牲层的上表面形成第二悬浮结构的图形；以及至少部分去除该第一牺牲层、该第二牺牲层以及该隔离层，使得该第一悬浮结构以及该第二悬浮结构至少部分地悬空。本申请在两层牺牲层之间形成隔离层，避免由两层牺牲层的直接接触而导致的牺牲层剥离现象，从而提高产品的良率，降低制造成本。
本发明授权一种微细结构的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种微细结构的制造方法，包括： 在基板的上表面形成第一牺牲层； 在所述第一牺牲层的上表面形成隔离层； 在所述隔离层的上表面形成第一悬浮结构的图形； 在所述隔离层的上表面形成第二牺牲层，所述第二牺牲层覆盖所述第一悬浮结构的图形； 在所述第二牺牲层的上表面形成第二悬浮结构的图形；以及 至少部分去除所述第一牺牲层、所述第二牺牲层以及所述隔离层，使得所述第一悬浮结构以及所述第二悬浮结构至少部分地悬空， 其中，所述方法还包括： 在形成所述第一悬浮结构的图形之前，在所述隔离层和所述第一牺牲层中形成第一贯通孔，所述基板的上表面或所述基板的上表面的已有结构的表面露出于所述第一贯通孔， 在形成所述第一悬浮结构的图形时，所述第一悬浮结构的图形通过所述第一贯通孔与所述基板的上表面或所述已有结构连接。
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