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龙图腾网获悉中国科学院沈阳自动化研究所申请的专利一种钛合金高耐磨高耐蚀强韧化复合涂层及其激光沉积制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116815128B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310747356.0，技术领域涉及：C23C14/28；该发明授权一种钛合金高耐磨高耐蚀强韧化复合涂层及其激光沉积制备方法是由贺晨;赵吉宾;赵宇辉;王志国;何振丰;张文东设计研发完成，并于2023-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种钛合金高耐磨高耐蚀强韧化复合涂层及其激光沉积制备方法在说明书摘要公布了：一种钛合金高耐磨高耐蚀强韧化复合涂层及其激光沉积制备方法，属于复合材料及涂层制备技术领域，所述复合涂层，由钛合金基板层、中间韧性缓冲层、表面强化膜层构成；钛合金基板层是指钛合金表面，表面强化膜层设置在所述钛合金基板层之上且远离钛合金基板表面，中间韧性缓冲层设置在钛合金基板层和表面强化膜层之间；所述钛合金基板层成分为TC4钛合金，中间韧性缓冲层的成分为TiNi形状记忆合金，表面强化膜层成分为TC4B4C。所述复合涂层采用激光沉积方法制备，表面强化膜层兼具了高硬度、高耐磨、高耐蚀、耐冲击等综合力学性能，可实现典型零件在特殊服役环境下对多功能高性能表面强韧化膜层可靠性制造的需求。

本发明授权一种钛合金高耐磨高耐蚀强韧化复合涂层及其激光沉积制备方法在权利要求书中公布了：1.一种钛合金高耐磨高耐蚀强韧化复合涂层，其特征在于，由钛合金基板层、中间韧性缓冲层、表面强化膜层构成；所述钛合金基板层是指钛合金表面，所述表面强化膜层设置在所述钛合金基板层之上且远离钛合金基板表面，所述中间韧性缓冲层设置在钛合金基板层和表面强化膜层之间；其中，所述中间韧性缓冲层的成分为TiNi形状记忆合金，所述表面强化膜层成分为TC4B4C，TC4B4C是指微纳尺度错配B4C陶瓷颗粒与TC4合金粉末混合或者掺杂； 所述微纳尺度错配B4C陶瓷颗粒中，53-150μm粒径范围的B4C颗粒质量分数占比50%~75%，5-10nm粒径范围的B4C颗粒质量分数占比25%~50%；所述TC4B4C的制备方法：通过将微米级和纳米级B4C陶瓷颗粒按质量分数加入到TC4合金粉末中，先以V型混粉器进行机械预混合，后通过高能球磨机进行湿法混合，湿法混合介质采用无水乙醇，经真空干燥后获得混合均匀的陶瓷颗粒增强TC4B4C复合粉末；B4C的添加量占TC4B4C复合粉末质量分数的10%~50%。

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