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龙图腾网获悉安徽奥飞声学科技有限公司申请的专利MEMS结构的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116828377B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310992409.5，技术领域涉及：H04R19/04；该发明授权MEMS结构的制备方法是由李冠华;周旭;刘端设计研发完成，并于2023-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。

本MEMS结构的制备方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种MEMS结构及其制备方法，MEMS压电麦克风。该制备方法包括：步骤A，在衬底正面形成热氧层弧形凸起；步骤B，在包含热氧层弧形凸起的衬底上形成具有弧形凸起形状的复合振动层；步骤C，在衬底背面进行深硅刻蚀并释放所述热氧层，形成衬底背腔，令具有弧形凸起形状的复合振动层悬空。本发明中，通过干法刻蚀工艺控制热氧层弧形凸起的幅度和精度，工艺简单方便，精度高，并且后续沉积的复合振动层跟随该热氧层弧形凸起而呈现弧形凸起形状，更加地平缓自然，应力释放更为有效。

本发明授权MEMS结构的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种MEMS结构的制备方法，其特征在于，包括： 步骤A，在衬底正面形成热氧层弧形凸起； 其中，所述衬底为硅衬底，所述步骤A包括：子步骤A1，通过热氧化工艺在衬底正面形成氧化硅层；子步骤A2，在衬底正面图形化所述氧化硅层，形成氧化硅层弧形凸起，所述热氧层弧形凸起的曲率半径R满足1cm≤R≤3cm； 步骤B，在包含热氧层弧形凸起的衬底上形成具有弧形凸起形状的复合振动层； 所述步骤B包括：子步骤B1a，在包含所述热氧层弧形凸起的衬底上依次沉积振动支撑层、下电极层、压电层、上电极层；子步骤B1b，图形化所述上电极层、压电层、下电极层，其中，图形化后的上电极层、压电层、下电极层的水平面投影在衬底背腔水平面投影的内侧，且连续延伸； 或，所述步骤B包括：子步骤B2a，在包含所述热氧层弧形凸起的衬底上沉积下电极层；子步骤B2b，图形化下电极层，仅保留热氧层上的下电极层；子步骤B2c，在包含下电极层、热氧层弧形凸起的衬底上依次沉积下压电层、中电极层、上压电层、上电极层；子步骤B2d，图形化所述上电极层；其中，图形化后的上电极层、下电极层的水平面投影在衬底背腔水平面投影的内侧，且连续延伸； 步骤C，在衬底背面进行深硅刻蚀并释放所述热氧层，形成衬底背腔，令具有弧形凸起形状的复合振动层悬空。

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