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龙图腾网获悉杭州中欣晶圆半导体股份有限公司申请的专利除害设备互相备用装置及其控制方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116985281B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311079074.4，技术领域涉及：B28D5/00；该发明授权除害设备互相备用装置及其控制方法是由平铁卫设计研发完成，并于2023-08-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本除害设备互相备用装置及其控制方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种除害设备互相备用装置及其控制方法，所属硅片加工技术领域，包括TOOLⅠ和TOOLⅡ，所述的TOOLⅠ、TOOLⅡ为LPCVD的主设备，所述的TOOLⅠ对应设有与TOOLⅠ相管路连通的除害设备Ⅱ，所述的除害设备Ⅱ与TOOLⅠ间设有进气管Ⅰ，所述的进气管Ⅰ上设有三通电磁阀Ⅱ，所述的TOOLⅡ对应设有与TOOLⅡ相管路连通的除害设备Ⅰ，所述的三通电磁阀Ⅱ与除害设备Ⅰ间设有补流管Ⅰ，所述的除害设备Ⅰ与TOOLⅡ间设有进气管Ⅱ，所述的进气管Ⅱ上设有三通电磁阀Ⅰ，所述的三通电磁阀Ⅰ与除害设备Ⅱ间设有补流管Ⅱ。当除害设备一台或两台出现故障时，实现管路切换到另一台除害设备的进气端，保证主设备排气连续不中断处理。

本发明授权除害设备互相备用装置及其控制方法在权利要求书中公布了：1.一种除害设备互相备用装置的控制方法，其特征在于：所述的除害设备互相备用装置包括TOOLⅠ2和TOOLⅡ4，所述的TOOLⅠ2、TOOLⅡ4为LPCVD的主设备，所述的TOOLⅠ2对应设有与TOOLⅠ2相管路连通的除害设备Ⅱ10，所述的除害设备Ⅱ10与TOOLⅠ2间设有进气管Ⅰ12，所述的进气管Ⅰ12上设有三通电磁阀Ⅱ13，所述的TOOLⅡ4对应设有与TOOLⅡ4相管路连通的除害设备Ⅰ9，所述的三通电磁阀Ⅱ13与除害设备Ⅰ9间设有补流管Ⅰ3，所述的除害设备Ⅰ9与TOOLⅡ4间设有进气管Ⅱ8，所述的进气管Ⅱ8上设有三通电磁阀Ⅰ5，所述的三通电磁阀Ⅰ5与除害设备Ⅱ10间设有补流管Ⅱ11； 所述的除害设备Ⅰ9、除害设备Ⅱ10侧边设有除害设备Ⅲ16，所述的除害设备Ⅲ16上设有进气管Ⅲ17，所述的进气管Ⅲ17与补流管Ⅰ3间、进气管Ⅲ17与补流管Ⅱ11间均设有三通电磁阀Ⅲ15，所述的进气管Ⅲ17与三通电磁阀Ⅲ15间分别设有分流管Ⅰ14和分流管Ⅱ18； 所述的三通电磁阀Ⅰ5与TOOLⅡ4间、三通电磁阀Ⅱ13与TOOLⅠ2间均设有流量计1； 所述的除害设备互相备用装置的控制方法，包括如下操作步骤： 第一步：当除害设备Ⅰ9、除害设备Ⅱ10均正常运行时，TOOLⅠ2的有害气体通过进气管Ⅰ12进入除害设备Ⅱ10进行处理；TOOLⅡ4的有害气体通过进气管Ⅱ8进入除害设备Ⅰ9进行处理； 第二步：当除害设备Ⅰ9出现故障时，三通电磁阀Ⅱ13的状态是进气管Ⅰ12通，补流管Ⅰ3不通，三通电磁阀Ⅰ5的状态是进气管Ⅱ8不通，补流管Ⅱ11通，TOOLⅠ2和TOOLⅡ4的有害气体通过除害设备Ⅱ10进行处理； 第三步：当除害设备Ⅱ10出现故障时，三通电磁阀Ⅱ13的状态是进气管Ⅰ12不通，补流管Ⅰ3通，三通电磁阀Ⅰ5的状态是进气管Ⅱ8通，补流管Ⅱ11不通，TOOLⅠ2和TOOLⅡ4的有害气体通过除害设备Ⅰ9进行处理。

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