理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司聂红洲获国家专利权
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龙图腾网获悉理想万里晖半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利靶材挡板以及PVD设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223496589U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422977038.6,技术领域涉及:C23C14/34;该实用新型靶材挡板以及PVD设备是由聂红洲;徐升东设计研发完成,并于2024-12-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本靶材挡板以及PVD设备在说明书摘要公布了:本实用新型提供靶材挡板以及PVD设备。所述靶材挡板设置在PVD设备的靶材与传动滚轮之间,所述靶材挡板包括覆盖所述靶材两端的非有效溅射区的第一挡板以及第二挡板,所述非有效溅射区的长度范围为130‑180mm。本实用新型能避免在传动滚轮、载板背面轨道以及非承载区上镀TCO膜,能遮挡向上溅射过程中产生的粉尘并消除其不良影响。
本实用新型靶材挡板以及PVD设备在权利要求书中公布了:1.一种靶材挡板,设置在PVD设备的向上溅射的靶材与传动滚轮之间,其特征在于,所述靶材挡板包括覆盖所述靶材两端的非有效溅射区的第一挡板以及第二挡板,所述非有效溅射区的长度范围为130-180mm。
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