昆山日月同芯半导体有限公司胡明翊获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山日月同芯半导体有限公司申请的专利一种Spin蚀刻防反溅结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223496629U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-10-31发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422924535.X，技术领域涉及：C23F1/08；该实用新型一种Spin蚀刻防反溅结构是由胡明翊;张雷;简永幸设计研发完成，并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种Spin蚀刻防反溅结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种Spin蚀刻防反溅结构，涉及蚀刻加工技术领域。本实用新型包括防护板，防护板的顶部呈等距安装有若干个安装螺栓，防护板的底部固定连接有有引流板，引流板的底部固定连接有底板，底板的顶部固定连接有挡板，防护板的顶部开设有清扫机构，拉动把手带动横板移动，横板移动带动移动杆在清扫孔内部移动，而移动杆移动则会带动清扫块对底板上方药液进行推动，从而对药液水进行清理。
本实用新型一种Spin蚀刻防反溅结构在权利要求书中公布了：1.一种Spin蚀刻防反溅结构，包括防护板1，其特征在于：所述防护板1的顶部呈等距安装有若干个安装螺栓2，所述防护板1的底部固定连接有有引流板3，所述引流板3的底部固定连接有底板4，所述底板4的顶部固定连接有挡板5，所述防护板1的顶部开设有清扫机构，所述防护板1的底部设置有收集机构。
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